等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展
来源期刊:兵器材料科学与工程2000年第3期
论文作者:徐可为 马胜利
关键词:PCVD硬质膜; 工艺; 结合强度; 研究进展;
摘 要:等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了近年来PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势.
徐可为1,马胜利1
(1.西安交通大学)
摘要:等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了近年来PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势.
关键词:PCVD硬质膜; 工艺; 结合强度; 研究进展;
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