低压等离子喷涂钨薄膜及纳米粉末
来源期刊：热喷涂技术2011年第1期
论文作者：T.N.McKechnie J.SO’Dell 杨永琪
文章页码：65 - 68
关键词：低压等离子;钨薄膜;沉积;纳米粉末;
摘 要：本文采用了一种新的等离子化学工艺来制备钨薄膜。这种工艺采用超细粉或前驱体作为原料,利用低压下等离子使原料气化,蒸发沉积成纳米尺寸颗粒,形成等轴晶和柱状晶结构,这与传统的等离子喷涂差异很大,传统的等离子喷涂得到的颗粒为典型的扁平化结构。颗粒尺寸分析表明这种技术制备的钨粉末粒度为30～150nm,制备的沉积层中的钨颗粒尺寸较大,这主要是因为晶粒长大引起的。
T.N.McKechnie，J.SO’Dell，杨永琪
摘 要：本文采用了一种新的等离子化学工艺来制备钨薄膜。这种工艺采用超细粉或前驱体作为原料,利用低压下等离子使原料气化,蒸发沉积成纳米尺寸颗粒,形成等轴晶和柱状晶结构,这与传统的等离子喷涂差异很大,传统的等离子喷涂得到的颗粒为典型的扁平化结构。颗粒尺寸分析表明这种技术制备的钨粉末粒度为30～150nm,制备的沉积层中的钨颗粒尺寸较大,这主要是因为晶粒长大引起的。
关键词：低压等离子;钨薄膜;沉积;纳米粉末;
