三嗪对CVD石墨烯n型掺杂的研究

来源期刊：无机材料学报2017年第5期

论文作者：刘颖 戴丹 江南

文章页码：517 - 522

关键词：CVD石墨烯;三嗪;n型掺杂;载流子浓度;表面电阻;

摘    要：以化学气相沉积（CVD）制备的单层石墨烯为原料,小分子三嗪为掺杂剂,采用吸附掺杂的方式,在低温下对石墨烯实现n型掺杂。利用拉曼光谱（Raman）、X射线光电子能谱分析（XPS）、原子力显微镜（AFM）、紫外分光光度计（UV）和霍尔效应测试仪（Hall）对样品的形貌、结构及电学性能进行表征。结果表明:该方法简单安全,能够对石墨烯实现均匀的n型掺杂,掺杂石墨烯的透光率达到95%。掺杂后石墨烯的特征峰G峰和2D峰向高波数移动。掺杂180 min后,载流子浓度达到4×10¹²/cm²,接近掺杂前的载流子浓度,掺杂后的石墨烯在450℃的退火温度下具有可逆能力,其表面电阻在300℃以下具有较好的稳定性。