成份及微观结构对涂层硬度及粘结强度的影响

来源期刊：中国有色金属学报1993年第4期

论文作者：马柳莺 李晓伟 刘国纯 卞恒正

文章页码：58 - 63

关键词：化学气相沉积 物理化学气相沉积 粘结强度 沉积工艺 硬度

摘    要：测定了物理化学气相沉积(PCVD)Ti(C,N)-TiN 涂层和化学气相沉积(CVD)Ti(C,N)-TiN 涂层的显微硬度(Hv)和粘结强度(E_b)。采用 X 射线衍射实验、扫描电子显微术以及 X 射线光电子谱分析了 PCVD 与 CVD 涂层部分力学性能间差别的原因。指出涂层择优取向及物相组成是影响涂层硬度的重要因素;涂层-基体粘结强度与沉积工艺、界面上新相和孔隙的存在密切相关。