硫酸盐体系三价铬电镀黑铬的工艺
来源期刊:材料保护2013年第5期
论文作者:丁运虎 毛祖国 肖伟平 马爱华 付念
文章页码:33 - 36
关键词:三价铬电镀黑铬;硫酸盐体系;Hull Cell;小槽;发黑剂;辅助发黑剂;镀液性能;镀层性能;
摘 要:为了寻找更环保、更稳定的三价铬电镀黑铬工艺,采用Hull Cell和小槽试验优选了硫酸盐体系三价黑铬电镀液中发黑剂、辅助发黑剂的种类及用量,并对镀液和镀层性能进行了测试。结果表明:最优三价铬电镀黑铬工艺为35 g/L碱式硫酸铬,30 mL/L配位剂,150 g/L硫酸钠,80 g/L硫酸钾,70 g/L硼酸,3 mL/LBNW-1润湿剂,2~4 g/L半胱氨酸,1~2 g/L硫氰酸钾,pH值3.4~3.8,温度50~60℃,阴极电流密度5~10A/dm2;以该工艺进行三价铬电镀黑铬,镀液稳定性好、分散能力强,电流密度范围宽,可达2.5~15.0 A/dm2;该工艺制备的黑铬镀层主要成分为Cr,S以及少量有机物;镀层黑度好,耐蚀性好,与基体结合良好。
丁运虎,毛祖国,肖伟平,马爱华,付念
武汉材料保护研究所
摘 要:为了寻找更环保、更稳定的三价铬电镀黑铬工艺,采用Hull Cell和小槽试验优选了硫酸盐体系三价黑铬电镀液中发黑剂、辅助发黑剂的种类及用量,并对镀液和镀层性能进行了测试。结果表明:最优三价铬电镀黑铬工艺为35 g/L碱式硫酸铬,30 mL/L配位剂,150 g/L硫酸钠,80 g/L硫酸钾,70 g/L硼酸,3 mL/LBNW-1润湿剂,2~4 g/L半胱氨酸,1~2 g/L硫氰酸钾,pH值3.4~3.8,温度50~60℃,阴极电流密度5~10A/dm2;以该工艺进行三价铬电镀黑铬,镀液稳定性好、分散能力强,电流密度范围宽,可达2.5~15.0 A/dm2;该工艺制备的黑铬镀层主要成分为Cr,S以及少量有机物;镀层黑度好,耐蚀性好,与基体结合良好。
关键词:三价铬电镀黑铬;硫酸盐体系;Hull Cell;小槽;发黑剂;辅助发黑剂;镀液性能;镀层性能;