化学镀Ni-W-Mo-p工艺研究
来源期刊：中国钨业2008年第3期
论文作者：孙亚丽 黄新 梁鹏飞 余祖孝
关键词：化学镀Ni-W-Mo-P; 工艺; 沉积速度; 显微硬度; 耐蚀性; 腐蚀电位;
摘 要：为了获得四元化学镀Ni-W-No-P合金的高镀速、高硬度和高耐腐蚀性,以三元化学镀Ni-Mo-P的镀液配方为基础,研究了钨酸钠浓度、pH、施镀温度、时间对Ni-W-Mo-P合金镀层沉积速度、硬度、孔隙率、耐蚀性、腐蚀电位的影响,得出最佳化学镀工艺:30～40g/L钨酸钠;pH9;85-90℃;1.5h.研究结果为化学镀M-W-Mo-P合金工艺提供了依据.
孙亚丽1，黄新1，梁鹏飞1，余祖孝1
(1.四川理工学院材料与化学工程系材料腐蚀与防护四川省高校重点实验室,四川,自贡,643000)
摘要:为了获得四元化学镀Ni-W-No-P合金的高镀速、高硬度和高耐腐蚀性,以三元化学镀Ni-Mo-P的镀液配方为基础,研究了钨酸钠浓度、pH、施镀温度、时间对Ni-W-Mo-P合金镀层沉积速度、硬度、孔隙率、耐蚀性、腐蚀电位的影响,得出最佳化学镀工艺:30～40g/L钨酸钠;pH9;85-90℃;1.5h.研究结果为化学镀M-W-Mo-P合金工艺提供了依据.
关键词:化学镀Ni-W-Mo-P; 工艺; 沉积速度; 显微硬度; 耐蚀性; 腐蚀电位;
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