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硅薄膜的热丝法淀积

来源期刊：稀有金属1999年第4期

论文作者：刘嘉禾吴瑞华罗志强王世昌刘莉

关键词：热丝法; 非晶硅薄膜; 多晶硅薄膜;

摘要：系统地研究了热丝化学气相沉积技术中沉积气压、气体流量、钨丝温度、衬底温度对硅薄膜的结构、生长速率和光电性能的影响.通过优化各工艺参数,成功地制备出光暗电导比达104的非晶硅薄膜和晶粒尺寸达微米量级的晶相良好的多晶硅薄膜.

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刘嘉禾¹，吴瑞华¹，罗志强¹，王世昌¹，刘莉¹

(1.北京有色金属研究总院,北京100088)

摘要:系统地研究了热丝化学气相沉积技术中沉积气压、气体流量、钨丝温度、衬底温度对硅薄膜的结构、生长速率和光电性能的影响.通过优化各工艺参数,成功地制备出光暗电导比达104的非晶硅薄膜和晶粒尺寸达微米量级的晶相良好的多晶硅薄膜.

关键词:热丝法; 非晶硅薄膜; 多晶硅薄膜;

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