化学气相沉积法碳纤维表面连续涂覆B4C的研究
来源期刊：材料工程2000年第8期
论文作者：李德湛 李银奎 张红萍 龙永福
关键词：化学气相沉积; 碳纤维; 碳化硼;
摘 要：以H2,CH4,BCl3为原料气,用化学气相沉积(CVD)法在碳纤维表面连续涂覆B4C .通过对CVD法各种影响因素(沉积温度、反应物流量比、走丝速度)的讨论,得到了最佳涂覆条件:BCl3/CH4=3/5,H2过量,沉积温度1100℃,走丝速度1m/min.对涂层物质进行定性分析后通过对涂层Cf和未涂层Cf进行电镜观察,并做了差热分析和单丝强度测试, 结果表明涂层效果较好,且抗热氧化性和单丝强度都有明显提高.
李德湛1，李银奎1，张红萍1，龙永福1
(1.国防科技大学材料工程与应用化学系,长沙,410073)
摘要:以H2,CH4,BCl3为原料气,用化学气相沉积(CVD)法在碳纤维表面连续涂覆B4C .通过对CVD法各种影响因素(沉积温度、反应物流量比、走丝速度)的讨论,得到了最佳涂覆条件:BCl3/CH4=3/5,H2过量,沉积温度1100℃,走丝速度1m/min.对涂层物质进行定性分析后通过对涂层Cf和未涂层Cf进行电镜观察,并做了差热分析和单丝强度测试, 结果表明涂层效果较好,且抗热氧化性和单丝强度都有明显提高.
关键词:化学气相沉积; 碳纤维; 碳化硼;
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