射频磁控溅射有机衬底SnO2∶Sb透明导电膜性能的研究
来源期刊：功能材料2003年第4期
论文作者：刘晓梅 郝晓涛 马瑾 马洪磊 张士勇
关键词：有机衬底; SnO2∶Sb透明导电膜; 光电性质;
摘 要：采用射频磁控溅射法在聚丙烯己二酯有机薄膜(polypropylene adipate, PPA)衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2∶Sb)透明导电膜.研究了薄膜的厚度效应对SnO2∶Sb薄膜的结构、光学和电学特性的影响.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构.载流子浓度和迁移率随着薄膜厚度的增加而增大,电阻率随着薄膜厚度的增加而减小,最低电阻率为 2×10-3Ω*cm.
刘晓梅1，郝晓涛2，马瑾2，马洪磊2，张士勇3
(1.山东大学,计算机科学与技术学院,山东,济南,250100;
2.山东大学,物理与微电子学院光电材料与器件研究所,山东,济南,250100;
3.长安大学,理学院,陕西,西安,710064)
摘要:采用射频磁控溅射法在聚丙烯己二酯有机薄膜(polypropylene adipate, PPA)衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2∶Sb)透明导电膜.研究了薄膜的厚度效应对SnO2∶Sb薄膜的结构、光学和电学特性的影响.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构.载流子浓度和迁移率随着薄膜厚度的增加而增大,电阻率随着薄膜厚度的增加而减小,最低电阻率为 2×10-3Ω*cm.
关键词:有机衬底; SnO2∶Sb透明导电膜; 光电性质;
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