含氧碳源提高金刚石膜沉积速率的研究

来源期刊：材料导报2011年第S2期

论文作者：李德贵 冉均国

文章页码：208 - 211

关键词：金刚石膜;生长速率;微波等离子体化学气相沉积;

摘    要：采用微波等离子体化学气相法合成的金刚石膜质量好,但采用常规CH4-H2反应气体体系,金刚石膜的沉积速率较慢。为此,实验研究了C2H5OH-H2、CH3COCH3-H2等含氧体系下碳源浓度、微波功率、气体压力对金刚石膜沉积速率、表面形貌、电阻率的影响。结果表明,使用C2H5OH-H2、CH3COCH3-H2等含氧体系,金刚石膜的生长速率可达0.6μm/h以上,较常规CH4-H2体系提高1倍以上,并且金刚石膜的纯度高（80%以上）、晶型好、电阻率高。引入含氧碳源是一种提高金刚石膜沉积速率的有效方法。