CVD金刚石薄膜摩擦学性能的研究现状
来源期刊:材料导报2014年第5期
论文作者:孙洪涛 王小平 王丽军 孙义清 王金烨 王子风 曹双迎
文章页码:47 - 125
关键词:金刚石薄膜;摩擦学性能;纳米金刚石薄膜;掺杂类金刚石薄膜;
摘 要:化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜通常是一种表面粗糙的多晶薄膜,其摩擦系数相对于光滑金刚石明显偏高,这制约着其在摩擦学领域的应用。在综合分析近年来该领域研究的基础上,总结了CVD金刚石薄膜摩擦学性能的主要影响因素,并从降低其摩擦系数的角度出发,着重讨论了几种提高CVD金刚石薄膜摩擦性能的途径。
孙洪涛,王小平,王丽军,孙义清,王金烨,王子风,曹双迎
上海理工大学理学院
摘 要:化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜通常是一种表面粗糙的多晶薄膜,其摩擦系数相对于光滑金刚石明显偏高,这制约着其在摩擦学领域的应用。在综合分析近年来该领域研究的基础上,总结了CVD金刚石薄膜摩擦学性能的主要影响因素,并从降低其摩擦系数的角度出发,着重讨论了几种提高CVD金刚石薄膜摩擦性能的途径。
关键词:金刚石薄膜;摩擦学性能;纳米金刚石薄膜;掺杂类金刚石薄膜;