水杨酸体系抛光液中钌的化学机械抛光研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第12期

论文作者：王婕 储向峰 董永平 白林山 叶明富 孙文起

文章页码：3120 - 3123

关键词：钌;化学机械抛光;水杨酸;

摘    要：研究了抛光液中H2O2和水杨酸浓度对钌的抛光速率的影响。采用电化学方法和X射线光电子能谱分析了H2O2和水杨酸对金属钌腐蚀效果的影响;采用原子力显微镜观察钌表面的微观形貌。结果表明:水杨酸浓度的增加有利于金属钌表面钝化膜的形成,抛光速率值随之增加;随着H2O2浓度的不断增加,抛光速率不断增加,当H2O2质量分数大于3%时,抛光速率值随浓度的增加而降低。抛光后的金属钌表面平均粗糙度Ra为7.2 nm。