Fei氏方波对Ni-P合金镀层组成及其非晶化程度的调控作用

来源期刊：材料工程2020年第6期

论文作者：郭琪琪 费敬银 张嫚 韩锡正 赵利娜

文章页码：163 - 169

关键词：非晶化;电沉积;Fei氏方波;高P;Ni-P合金;

摘    要：为解决常规电沉积过程中无法获得耐蚀性优异的非晶态结构Ni-P合金镀层的问题,以快速镀Ni-P合金镀液为基础镀液,采用Fei氏方波电沉积法研究波形参数对Ni-P合金镀层非晶化过程的影响规律。采用扫描电子显微镜（SEM）表征Ni-P合金镀层的微观形貌,通过能谱分析（EDS）方法进行镀层P含量分析,用X射线衍射技术（XRD）考察镀层相结构的变化。优化的脉冲工艺参数为:平均电流密度15 A/dm²,逆向脉冲系数0.3,占空比0.6,频率1 Hz。研究表明:通过调整Fei氏方波参数,可电沉积出镀层表面完整、外观光亮、P含量最高可达17.93%（质量分数）、几乎没有金属晶体衍射峰的非晶态Ni-P合金镀层。