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氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜

来源期刊:材料研究学报2000年第5期

论文作者:王又清 黄新堂 王秋良 王忠柯 陈清明

关键词:准分子脉冲激光; YBCO薄膜; 高临界电流密度; NiCr合金基底; 织构;

摘    要:应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ)缓冲层薄膜,再在YSZ/NiCr基底上在750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的YBa2Cu3O7-x(YBCO)薄膜.YSZ和YBCO薄膜都为c-轴取向和平面织构的,YSZ(202)和YBCO(103)的X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为18°和11°.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为90K(R=0)和7.9×105A/cm2(77K,零磁场).

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氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜

王又清1,黄新堂1,王秋良1,王忠柯1,陈清明1

(1.华中理工大学激光技术国家重点实验室;
2.华中师范大学)

摘要:应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ)缓冲层薄膜,再在YSZ/NiCr基底上在750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的YBa2Cu3O7-x(YBCO)薄膜.YSZ和YBCO薄膜都为c-轴取向和平面织构的,YSZ(202)和YBCO(103)的X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为18°和11°.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为90K(R=0)和7.9×105A/cm2(77K,零磁场).

关键词:准分子脉冲激光; YBCO薄膜; 高临界电流密度; NiCr合金基底; 织构;

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