热等静压对铀基钛镀层的影响
来源期刊：稀有金属材料与工程2010年第S1期
论文作者：张羽廷 张鹏程 谢东华 王庆富 刘婷婷
文章页码：501 - 503
关键词：热等静压(HIP);铀/钛;界面扩散;
摘 要：采用扫描电镜（SEM）,能谱仪（EDS）,X-射线衍射仪（XRD）等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600℃,0.5h,150MPa条件下热等静压（HIP）处理对其表面界面特性及界面扩散的影响。结果表明:经HIP处理后,镀层致密性提高,膜基结合强度也提高,U、Ti在界面的扩散受到压力的抑制。
张羽廷1，张鹏程1，谢东华2，王庆富1,2，刘婷婷1
1. 表面物理与化学国家重点实验室2. 中国工程物理研究院
摘 要：采用扫描电镜（SEM）,能谱仪（EDS）,X-射线衍射仪（XRD）等方法,研究了U上磁控溅射Ti镀层在600℃,0.5h,150MPa条件下热等静压（HIP）处理对其表面界面特性及界面扩散的影响。结果表明:经HIP处理后,镀层致密性提高,膜基结合强度也提高,U、Ti在界面的扩散受到压力的抑制。
关键词：热等静压(HIP);铀/钛;界面扩散;
