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CVD工艺中气体流型的研究

来源期刊：功能材料2004年增刊第1期

论文作者：汪飞琴苏小平鲁泥藕

关键词：化学气相沉积; 体材料; 稳定性; 均匀性; 流型;

摘要：化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.

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汪飞琴¹，苏小平¹，鲁泥藕¹

(1.北京有色金属研究总院,北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京,100088)

摘要:化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.

关键词:化学气相沉积; 体材料; 稳定性; 均匀性; 流型;

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