高温模锻对钨铜电子封装材料组织和性能的影响
来源期刊:粉末冶金材料科学与工程2011年第3期
论文作者:姜国圣 王志法 古一
文章页码:403 - 406
关键词:钨铜电子封装材料;高温锻造;组织;性能;
摘 要:采用高温熔渗法制备钨铜电子封装材料,在850℃下对该材料进行模锻,通过扫描电镜(SEM)观察材料的微观组织,并利用超声波块体扫描仪探测材料内部的孔隙分布情况,研究高温模锻对钨铜电子封装材料组织和性能的影响。结果表明:在850℃高温模锻能显著减少钨铜电子封装材料内部的孔洞缺陷,内部组织更均匀、致密。经1次高温模锻后,相对密度达到99.5%,气密性由锻造前的27×10-10(Pa-m3)/s提高到3.5×10-10(Pa-m3)/s,导热系数从181.0 W/(m-K)提高至195 W/(m-K)。增加锻造次数对密度影响有限,材料性能变化不大。
姜国圣,王志法,古一
中南大学材料科学与工程学院
摘 要:采用高温熔渗法制备钨铜电子封装材料,在850℃下对该材料进行模锻,通过扫描电镜(SEM)观察材料的微观组织,并利用超声波块体扫描仪探测材料内部的孔隙分布情况,研究高温模锻对钨铜电子封装材料组织和性能的影响。结果表明:在850℃高温模锻能显著减少钨铜电子封装材料内部的孔洞缺陷,内部组织更均匀、致密。经1次高温模锻后,相对密度达到99.5%,气密性由锻造前的27×10-10(Pa-m3)/s提高到3.5×10-10(Pa-m3)/s,导热系数从181.0 W/(m-K)提高至195 W/(m-K)。增加锻造次数对密度影响有限,材料性能变化不大。
关键词:钨铜电子封装材料;高温锻造;组织;性能;