CaCu3Ti4O12介电陶瓷击穿场强的研究进展
来源期刊:绝缘材料2020年第10期
论文作者:刘玉倩 吝伶艳 张建花 李卓晓 宋建成 雷志鹏
文章页码:10 - 15
关键词:CaCu3Ti4O12陶瓷;制备工艺;掺杂改性;击穿场强;
摘 要:CaCu3Ti4O12(CCTO)新型介电陶瓷以其高介电常数和高频率稳定性等优异性能,在高介电材料研究领域和高介电电容器领域成为关注的热点。然而,目前由于其击穿场强较小,限制了其应用范围。本文综述了最近几年国内外CCTO陶瓷击穿场强的研究进展。首先介绍了常用的CCTO陶瓷制备工艺,其次详细归纳了制备工艺和元素掺杂对其击穿场强的影响,最后总结了CCTO陶瓷击穿场强提高的规律与原因,并将其精炼为3种击穿机理。
刘玉倩,吝伶艳,张建花,李卓晓,宋建成,雷志鹏
摘 要:CaCu3Ti4O12(CCTO)新型介电陶瓷以其高介电常数和高频率稳定性等优异性能,在高介电材料研究领域和高介电电容器领域成为关注的热点。然而,目前由于其击穿场强较小,限制了其应用范围。本文综述了最近几年国内外CCTO陶瓷击穿场强的研究进展。首先介绍了常用的CCTO陶瓷制备工艺,其次详细归纳了制备工艺和元素掺杂对其击穿场强的影响,最后总结了CCTO陶瓷击穿场强提高的规律与原因,并将其精炼为3种击穿机理。
关键词:CaCu3Ti4O12陶瓷;制备工艺;掺杂改性;击穿场强;