离子束辅助薄膜沉积
来源期刊：材料导报2003年第11期
论文作者：韩高荣 任兆杏 张溪文 张宇峰
关键词：离子束辅助沉积; 薄膜; 感应耦合等离子体;
摘 要：离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜.介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论.
韩高荣1，任兆杏2，张溪文1，张宇峰1
(1.浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;
2.中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031)
摘要:离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜.介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论.
关键词:离子束辅助沉积; 薄膜; 感应耦合等离子体;
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