高岭石层面羟基的硅烷嫁接改性机理
来源期刊：矿物学报2010年第S1期
论文作者：杨淑勤 何宏平 袁鹏 朱建喜 覃宗华 刘冬
文章页码：5 - 6
摘 要：<正>高岭石[Al2Si2O5（OH）4]是一种1∶1型的层状硅酸盐矿物,其结构单元层由一层[SiO4]四面体片和一层[AlO6]八面体片组成,因此高岭石片层具有两种不同性质的表面:硅氧烷底面和羟基底面。高岭石的羟基底面为硅烷嫁接提供了场所,通过八面体片上的羟基与有机硅烷发生缩合形成Al-O-Si共价键,嫁接后的高岭石材料较之
杨淑勤1,2，何宏平1,2，袁鹏1，朱建喜1，覃宗华1,2，刘冬1,2
1. 中国科学院广州地球化学研究所2. 中国科学院研究生院
摘 要：<正>高岭石[Al2Si2O5（OH）4]是一种1∶1型的层状硅酸盐矿物,其结构单元层由一层[SiO4]四面体片和一层[AlO6]八面体片组成,因此高岭石片层具有两种不同性质的表面:硅氧烷底面和羟基底面。高岭石的羟基底面为硅烷嫁接提供了场所,通过八面体片上的羟基与有机硅烷发生缩合形成Al-O-Si共价键,嫁接后的高岭石材料较之
关键词：
