氨气和氮气气氛下热处理对ITO薄膜光电性能的影响
来源期刊：稀有金属材料与工程2005年第10期
论文作者：刘海鹰 杨盟 刁训刚 王天民
关键词：射频磁控溅射; 氨气和氮气气氛; 热处理; ITO薄膜;
摘 要：利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善.
刘海鹰1，杨盟1，刁训刚1，王天民1
(1.北京航空航天大学,北京,100083)
摘要:利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善.
关键词:射频磁控溅射; 氨气和氮气气氛; 热处理; ITO薄膜;
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