WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析
来源期刊：无机材料学报2002年第1期
论文作者：方国家 姚凯伦 刘祖黎
关键词：三氧化钨薄膜; 纳米晶; 脉冲准分子激光沉积(PLD); 结构分析; Si(111)衬底;
摘 要：采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300°C以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜.
方国家1，姚凯伦1，刘祖黎1
(1.华中科技大学激光技术国家重点实验室和物理系,武汉,430074;
2.襄樊学院物理系,襄樊,441053;
3.中国科学院国际材料物理中心,沈阳,110015)
摘要:采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜.采用X射线衍射(XRD)、喇曼光谱(RS)、付里叶红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对不同条件下沉积的样品进行了结构分析.结果表明,氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数.在沉积温度300°C以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜.
关键词:三氧化钨薄膜; 纳米晶; 脉冲准分子激光沉积(PLD); 结构分析; Si(111)衬底;
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