温度和时间对TiN涂层性能的影响

来源期刊：中南大学学报(自然科学版)1995年第1期

论文作者：马柳莺 刘华佾 刘国纯 卞恒正

关键词：微观结构； 氮化钛； 气相沉积

Key words：microstructure； TiN； evaporation deposition

摘    要：采用松理化学气相沉积(即PVCD)技术，在不同的温度和时间下制备2组TiN涂层试样；讨论了温度与时间对涂层性能的影响，并在微观结构分析基础上，讨论了时间和温度等工艺参数与微观结构和性能间的关系。

Abstract: TiN coatings were obtained by the physical chemical evaporation deposition(PCVD)process。Effect of deposition temperature and time on the properties of TiN coatings is stud-ied.On the basis of the micro-structure analyses,the relations among the above-mentionedparameters,the micro-structure and the properties were discussed。