微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铁硅铝磁芯中铝和硅

来源期刊：冶金分析2017年第6期

论文作者：吴永明 陶武 杨倩倩 杜效 王继龙 郭飞飞

文章页码：69 - 74

关键词：微波消解;电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）;铁硅铝磁芯;铝;硅;

摘    要：使用盐酸-硝酸-氢氟酸并采用微波消解法处理样品,选择Al 308.215nm和Si212.412nm作为分析线,基体匹配法配制标准溶液系列绘制校准曲线,使用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）测定铝和硅,从而建立了微波消解-电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）测定铁硅铝磁芯中铝和硅的方法。结果表明,铝和硅的质量分数分别为1.00%⁹.00%和2.50%¹2.50%时与其发射强度呈线性,线性相关系数均不小于0.999 4;方法中铝和硅的检出限分别为0.020%和0.021%（质量分数）。实验方法应用于铁硅铝磁芯样品中铝和硅的测定,结果的相对标准偏差（RSD,n=6）为1.4%².2%;将测定结果与滴定法（测定铝）和重量法（测定硅）的测定结果进行比对,二者相吻合。