电子束辐射引发沉淀法制备氯霉素分子印迹微球
来源期刊:高分子材料科学与工程2014年第7期
论文作者:刘静 王兵 单娟娟
文章页码:143 - 148
关键词:高能电子束;沉淀聚合;分子印迹微球;辐照剂量;氯霉素;
摘 要:为了能够快速合成大小均一的分子印迹微球,采用电子加速器的高能电子束引发,甲基丙烯酸(MAA)为单体,沉淀聚合制备了氯霉素(CAP)分子印迹微球。紫外、红外光谱和静态氮吸附实验结果显示,CAP和MAA能够形成超分子复合物,辐照引发能使CAP成功印迹在三维网络结构中并且具有较大的比表面积280.25 m2/g。扫描电镜和等温吸附实验考察了辐照剂量对微球微观形态和吸附性能的影响,结果显示,在辐照剂量为20 kGy条件下能快速制备出粒径为300 nm~500 nm的印迹微球,最大吸附量为107.65μmol/g,且对氯霉素表现出明显的选择吸附性。
刘静1,王兵1,单娟娟1,2
1. 天津工业大学中空纤维膜材料与膜过程省部共建国家重点实验室培育基地天津工业大学环境与化学工程学院2. 天津工业大学天津工大纺织助剂有限公司
摘 要:为了能够快速合成大小均一的分子印迹微球,采用电子加速器的高能电子束引发,甲基丙烯酸(MAA)为单体,沉淀聚合制备了氯霉素(CAP)分子印迹微球。紫外、红外光谱和静态氮吸附实验结果显示,CAP和MAA能够形成超分子复合物,辐照引发能使CAP成功印迹在三维网络结构中并且具有较大的比表面积280.25 m2/g。扫描电镜和等温吸附实验考察了辐照剂量对微球微观形态和吸附性能的影响,结果显示,在辐照剂量为20 kGy条件下能快速制备出粒径为300 nm~500 nm的印迹微球,最大吸附量为107.65μmol/g,且对氯霉素表现出明显的选择吸附性。
关键词:高能电子束;沉淀聚合;分子印迹微球;辐照剂量;氯霉素;