一种碳化硅粉体的处理及其沉淀行为

张志力¹，翟洪祥¹，高立强¹，李世波¹，李翠伟¹，周洋¹

(1.北京交通大学机电学院材料研究所,北京,100044)

摘要:以一种日本产β-SiC粉体为原料,采用煅烧、酸洗和碱洗的方法对粉体表面进行处理,然后用相同的工艺配制出原始粉体和3种处理粉体的酸性(pH=3)、中性(pH=7)和碱性(pH=10)水料浆,通过料浆中分界面高度随时间的变化研究各料浆的沉淀行为,同时测量几种粉体的Zeta电位,并进行红外光谱分析.结果表明,当pH值为3和7时,4种料浆的沉淀行为相似;而当pH值为10时,3种处理粉体表现出与原始粉体截然不同的沉淀行为.红外光谱分析显示,原始粉体表面含有游离碳和碳氢化合物等杂质,因而料浆稳定性差,碱洗和酸洗可有效去除这些杂质,显著改善料浆的稳定性,而碱洗和酸洗的效果更优于煅烧.

关键词:碳化硅; 粉体; 表面处理; 沉淀;

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