溅射气压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的影响(英文)
来源期刊：无机材料学报2012年第10期
论文作者：孙可为 周万城 黄珊珊 唐秀凤
文章页码：1212 - 1216
关键词：ZnO:Al薄膜;直流磁控溅射;溅射气压;光电性质;
摘 要：采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al（AZO）薄膜,溅射气压为0.2～2.2 Pa.通过X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率（8.4×104 Ω·cm）,高的透过率和最高的品质因子Q.
孙可为，周万城，黄珊珊，唐秀凤
西北工业大学材料科学与工程学院,凝固技术国家重点实验室
摘 要：采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al（AZO）薄膜,溅射气压为0.2～2.2 Pa.通过X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随着溅射气压的增大而减小,变化曲线符合Keller-Simmons模型;薄膜均为六角纤锌矿结构,但择优取向随着溅射气压发生改变;溅射气压对薄膜的表面形貌有显著影响;当溅射气压为1.4 Pa时,薄膜有最低的电阻率（8.4×104 Ω·cm）,高的透过率和最高的品质因子Q.
关键词：ZnO:Al薄膜;直流磁控溅射;溅射气压;光电性质;
