MoS2/Zr复合薄膜的制备及性能研究
来源期刊：材料工程2007年第12期
论文作者：张辉 宋文龙 邓建新
关键词：涂层刀具; MoS2软涂层; 中频磁控溅射; MoS2/Zr复合薄膜;
摘 要：采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2 /Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察MoS2 /Zr复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成.测试涂层的厚度、显微硬度及涂层与基体之间的结合力等性能参数.结果表明:制备的MoS2 /Zr复合薄膜结构致密,结合力约为60N,厚度约为2.6μm,硬度约为HV800.
张辉1，宋文龙1，邓建新1
(1.山东大学,机械工程学院,济南,250061)
摘要:采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2 /Zr复合薄膜.采用扫描电子显微镜(SEM)考察MoS2 /Zr复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成.测试涂层的厚度、显微硬度及涂层与基体之间的结合力等性能参数.结果表明:制备的MoS2 /Zr复合薄膜结构致密,结合力约为60N,厚度约为2.6μm,硬度约为HV800.
关键词:涂层刀具; MoS2软涂层; 中频磁控溅射; MoS2/Zr复合薄膜;
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