ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究
来源期刊：无机材料学报2000年第6期
论文作者：龚海梅 汤定元 周咏东 李言谨 方家熊
关键词：ZnS; 离子束溅射沉积; XPS; HgCdTe; 表面抗反射膜; ZnS; ion beam sputtering deposition technique; XPS; HgCdTe; surface anti-reflection coat;
摘 要：用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积．用 X射线光电子能谱(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到元素Zn、S的沉积．
龚海梅1，汤定元1，周咏东2，李言谨1，方家熊1
(1.中国科学院上海技术物理研究所，上海200083;
2.苏州大学物理系，苏州215006)
摘要:用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积．用 X射线光电子能谱(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到元素Zn、S的沉积．
关键词:ZnS; 离子束溅射沉积; XPS; HgCdTe; 表面抗反射膜; ZnS; ion beam sputtering deposition technique; XPS; HgCdTe; surface anti-reflection coat;
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