简介概要

铈基、硅基半导体抛光液的发展概况

来源期刊:稀土2013年第2期

论文作者:张立业 张忠义 赵增祺 慕利娟

文章页码:68 - 73

关键词:化学机械抛光;CeO2抛光液;SiO2抛光液;

摘    要:介绍了化学机械抛光液的研究进展和抛光原理,分析了化学机械抛光过程中抛光液的重要作用,阐述了配制化学机械抛光液的两种方法,分析了影响铈基抛光液和硅基抛光液抛光性能的诸多因素。最后指出了抛光液回收再利用的重要性和可行性。

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铈基、硅基半导体抛光液的发展概况

张立业1,2,张忠义2,赵增祺1,2,3,慕利娟1,3

1. 内蒙古科技大学材料与冶金工程学院2. 包头稀土研究院3. 内蒙古工业大学材料科学与工程学院

摘 要:介绍了化学机械抛光液的研究进展和抛光原理,分析了化学机械抛光过程中抛光液的重要作用,阐述了配制化学机械抛光液的两种方法,分析了影响铈基抛光液和硅基抛光液抛光性能的诸多因素。最后指出了抛光液回收再利用的重要性和可行性。

关键词:化学机械抛光;CeO2抛光液;SiO2抛光液;

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