等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究

高原¹，王建忠¹，隗晓云¹，徐重¹，徐晋勇¹，刘燕萍¹

(1.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;
2.桂林电子工业学院,广西,桂林,541004)

摘要:利用等离子渗金属技术、尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的新型复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,并与等离子渗镀TiN/Ti层以及在碳钢基体表面直接用PVD法沉积TiN薄膜的表面形貌、结构、耐蚀性进行了检测和分析.结果表明:等离子渗镀的复合渗镀TiN/Ti层表面为均匀起伏的胞状物,Ti和N原子由表层呈梯度沿基体向内分布,属于冶金扩散层;用等离子渗金属技术等形成的复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,其表面形貌是为均匀、致密、细小的组织,平均硬度达到2500HV0.1左右,渗镀层厚度达十几微米,TiN层择优取向为(200)晶面;而PVD法直接沉积TiN薄膜厚度较薄,晶粒以不规则形式分布在基体上.在0.5mol/L H2SO4溶液中腐蚀性能表明,复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层的耐蚀性较好.

关键词:等离子辉光放电; PVD; TiN; 耐蚀性; 组织结构;

【全文内容正在添加中】