PVD制备TiAlSiN涂层的研究进展
来源期刊：材料导报2014年第3期
论文作者：彭笑 朱丽慧 Vineet Kumar 刘一雄
文章页码：42 - 118
关键词：物理气相沉积;TiAlSiN涂层;微观结构;力学性能;抗氧化性;热稳定性;
摘 要：概述了物理气相沉积(PVD)技术制备TiAlSiN涂层的研究现状及发展趋势,详细分析了Si元素的添加及Si与Al元素的含量对TiAlSiN涂层的微观结构、力学性能、高温抗氧化性和热稳定性的影响。解决PVD制备TiAlSiN涂层较低的膜基结合力和较大的残余应力等问题应是今后重点研究的方向。
彭笑1，朱丽慧1，Vineet Kumar2，刘一雄2
1. 上海大学材料科学与工程学院2. Kennametal Inc.
摘 要：概述了物理气相沉积(PVD)技术制备TiAlSiN涂层的研究现状及发展趋势,详细分析了Si元素的添加及Si与Al元素的含量对TiAlSiN涂层的微观结构、力学性能、高温抗氧化性和热稳定性的影响。解决PVD制备TiAlSiN涂层较低的膜基结合力和较大的残余应力等问题应是今后重点研究的方向。
关键词：物理气相沉积;TiAlSiN涂层;微观结构;力学性能;抗氧化性;热稳定性;
