TiO2光催化纳米薄膜的晶化处理
来源期刊：稀有金属材料与工程2006年第1期
论文作者：沈嘉年 张玉娟
关键词：TiO2光催化纳米薄膜; 晶化处理; 锐钛矿; 光催化活性;
摘 要：TiO2光催化纳米薄膜在400℃～800℃温区内恒温退火1 h～2 h,以消除膜内非晶,提高薄膜光催化活性.热处理前后试样的检测结果表明:退火使TiO2薄膜内非晶晶化,晶粒长大,光响应电流增大.随退火温度的升高,TiO2薄膜出现由非晶→锐钛矿→金红石的转变.其中,600℃退火1 h的TiO2薄膜为锐钛矿加金红石的混晶结构,光电流密度最大IUv=41.2A/m2,光催化活性最好.
沈嘉年1，张玉娟1
(1.上海大学,上海,200072)
摘要:TiO2光催化纳米薄膜在400℃～800℃温区内恒温退火1 h～2 h,以消除膜内非晶,提高薄膜光催化活性.热处理前后试样的检测结果表明:退火使TiO2薄膜内非晶晶化,晶粒长大,光响应电流增大.随退火温度的升高,TiO2薄膜出现由非晶→锐钛矿→金红石的转变.其中,600℃退火1 h的TiO2薄膜为锐钛矿加金红石的混晶结构,光电流密度最大IUv=41.2A/m2,光催化活性最好.
关键词:TiO2光催化纳米薄膜; 晶化处理; 锐钛矿; 光催化活性;
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