特纯金属的炼取
来源期刊：有色金属工程1956年第10期
论文作者：沈曙东
摘 要：<正> 近10年来,曾拟出了生产超纯Si、Ge的方法,以及生产其它许多总杂质含量<0.01％的金属的方法,其中杂质往往只有5×10-6（5 PPM）,个别元素可低于5×10-8（0.05PPM）。保证达到这种纯度的方法是:先用化学法或理化法制得纯化合物,再从其中还原出纯金属,或用精炼法。纯化合物的制取法如下:①不溶性化合物的二次沉淀,此时必须计及杂质有吸附和同时沉淀的可能;②二次再结晶;③杂质（有时与将其带入沉淀物的附加物一起）的沉淀或分馏;④用有机物液体自水溶液中提取;⑤用离子交换剂进行交换。下表表示从用各种方法净化所得化合物中还原出来的金属的总杂质(X10-6)。
沈曙东
摘 要：<正> 近10年来,曾拟出了生产超纯Si、Ge的方法,以及生产其它许多总杂质含量<0.01％的金属的方法,其中杂质往往只有5×10-6（5 PPM）,个别元素可低于5×10-8（0.05PPM）。保证达到这种纯度的方法是:先用化学法或理化法制得纯化合物,再从其中还原出纯金属,或用精炼法。纯化合物的制取法如下:①不溶性化合物的二次沉淀,此时必须计及杂质有吸附和同时沉淀的可能;②二次再结晶;③杂质（有时与将其带入沉淀物的附加物一起）的沉淀或分馏;④用有机物液体自水溶液中提取;⑤用离子交换剂进行交换。下表表示从用各种方法净化所得化合物中还原出来的金属的总杂质(X10-6)。
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