陶瓷基板化学镀铜预处理的研究
来源期刊:稀有金属材料与工程2004年第3期
论文作者:耿志挺 黄福祥 陈国海 钱志勇 宁洪龙 马莒生
关键词:化学镀; 陶瓷基板; 结合强度; 表面粗糙度;
摘 要:为提高封装基板铜导体层与陶瓷基板的结合强度,研究了在氧化铝和氮化铝的基板上进行化学镀铜,对表面进行粗化和改性,经过优化工艺条件后,氧化铝与镀层的结合强度可以达到27 MPa,氮化铝与镀层的结合强度可以达到22 MPa.
耿志挺1,黄福祥1,陈国海1,钱志勇1,宁洪龙1,马莒生1
(1.清华大学,北京,100084)
摘要:为提高封装基板铜导体层与陶瓷基板的结合强度,研究了在氧化铝和氮化铝的基板上进行化学镀铜,对表面进行粗化和改性,经过优化工艺条件后,氧化铝与镀层的结合强度可以达到27 MPa,氮化铝与镀层的结合强度可以达到22 MPa.
关键词:化学镀; 陶瓷基板; 结合强度; 表面粗糙度;
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