硫脲在10-甲基吩噻嗪修饰碳糊电极上的电催化氧化及电分析方法研究
来源期刊:分析试验室2009年第7期
论文作者:王春梅 高作宁
文章页码:1 - 4
关键词:硫脲;10-甲基吩噻嗪;碳糊修饰电极;电催化氧化;电化学动力学;
摘 要:研究了硫脲(Thiourea,Tu)在10-甲基吩噻嗪修饰碳糊电极(MPT/CPE)上的电催化氧化行为。结果表明,Tu在裸碳糊电极(CPE)上的直接电化学氧化过程十分迟缓,MPT/CPE对Tu的电化学氧化具有良好的催化作用。用计时电流法(CA)测定了Tu在MPT/CPE上的电极过程动力学参数,测得电荷传递系数α=0.61,电催化氧化反应的速率常数k=(1.96±0.10)×104(mol/L)-1.s-1。用方波伏安法(SWV)测得催化氧化峰电流与Tu浓度在1.0×10-68.0×10-3mol/L范围内呈良好的线性关系,线性回归方程为Ipa(μA)=10.836c(10-3mol/L)+5.326,R=0.9984,检出限为2.2×10-7mol/L(S/N=3)。方法可用于Tu的电化学法测定。
王春梅,高作宁
摘 要:研究了硫脲(Thiourea,Tu)在10-甲基吩噻嗪修饰碳糊电极(MPT/CPE)上的电催化氧化行为。结果表明,Tu在裸碳糊电极(CPE)上的直接电化学氧化过程十分迟缓,MPT/CPE对Tu的电化学氧化具有良好的催化作用。用计时电流法(CA)测定了Tu在MPT/CPE上的电极过程动力学参数,测得电荷传递系数α=0.61,电催化氧化反应的速率常数k=(1.96±0.10)×104(mol/L)-1.s-1。用方波伏安法(SWV)测得催化氧化峰电流与Tu浓度在1.0×10-68.0×10-3mol/L范围内呈良好的线性关系,线性回归方程为Ipa(μA)=10.836c(10-3mol/L)+5.326,R=0.9984,检出限为2.2×10-7mol/L(S/N=3)。方法可用于Tu的电化学法测定。
关键词:硫脲;10-甲基吩噻嗪;碳糊修饰电极;电催化氧化;电化学动力学;