退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响
来源期刊：材料工程2010年第2期
论文作者：吕反修 王耀华 贺琦 李成明 陈广超
关键词：ESAVD; 氧化钇薄膜; 折射系数; ESAVD; yttrium oxide thin film; refractive index;
摘 要：采用脉冲式静电辅助的气溶胶化学气相沉积方法成功的在Si(100)衬底上制备了Y_2O_3薄膜,研究了退火对Y_2O_3沉积薄膜的形貌、结构和光学性质的影响.X射线衍射分析结果表明沉积得到的Y_2O_3薄膜在退火前为非晶态结构,退火之后薄膜具有立方结构,并且具有(111)择优取向.SEM分析显示薄膜在退火后更加平滑、致密.椭偏仪的测试结果表明薄膜退火后的折射系数提高,消光系数减少.
吕反修1，王耀华2，贺琦1，李成明1，陈广超1
(1.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;
2.北京航空材料研究院,北京,100095)
摘要:采用脉冲式静电辅助的气溶胶化学气相沉积方法成功的在Si(100)衬底上制备了Y_2O_3薄膜,研究了退火对Y_2O_3沉积薄膜的形貌、结构和光学性质的影响.X射线衍射分析结果表明沉积得到的Y_2O_3薄膜在退火前为非晶态结构,退火之后薄膜具有立方结构,并且具有(111)择优取向.SEM分析显示薄膜在退火后更加平滑、致密.椭偏仪的测试结果表明薄膜退火后的折射系数提高,消光系数减少.
关键词:ESAVD; 氧化钇薄膜; 折射系数; ESAVD; yttrium oxide thin film; refractive index;
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