AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征
来源期刊：腐蚀与防护2008年第4期
论文作者：王成龙 冷娜 刘红忠 卢萍 赵琳 范多旺
关键词：镁合金; 阴极多弧离子; TiN复合层;
摘 要：采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究.结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV).此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象.真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用.
王成龙1，冷娜1，刘红忠2，卢萍1，赵琳1，范多旺1
(1.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070;
2.西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049;
3.兰州大成自动化工程有限公司,兰州,730070)
摘要:采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究.结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV).此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象.真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用.
关键词:镁合金; 阴极多弧离子; TiN复合层;
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