低温电沉积硅工艺研究进展
来源期刊：有色金属(冶炼部分)2019年第10期
论文作者：巫亮 赵占霞 张承龙
文章页码：67 - 73
关键词：低温;电沉积;硅;工艺;进展;
摘 要：半导体硅的传统制备工艺主要有直拉法、区熔法及气相沉积法等,这些制备工艺都需要在高温下进行,且涉及到大型设备,制备成本较高,操作较为复杂。采用低温电沉积法制备硅具有简单可控、低成本的特点,因而受到了研究者青睐。主要从电极、溶剂的选取及电沉积方法等方面阐述了低温电沉积硅工艺研究现状,同时对低温电沉积硅存在的问题和发展趋势进行了讨论。
巫亮1，赵占霞1，张承龙2
1. 上海大学理学院物理系2. 上海第二工业大学电子废弃物研究中心
摘 要：半导体硅的传统制备工艺主要有直拉法、区熔法及气相沉积法等,这些制备工艺都需要在高温下进行,且涉及到大型设备,制备成本较高,操作较为复杂。采用低温电沉积法制备硅具有简单可控、低成本的特点,因而受到了研究者青睐。主要从电极、溶剂的选取及电沉积方法等方面阐述了低温电沉积硅工艺研究现状,同时对低温电沉积硅存在的问题和发展趋势进行了讨论。
关键词：低温;电沉积;硅;工艺;进展;
