中国有色金属学报

文章编号:1004-0609(2014)05-1333-06

Ru掺杂Sn基氧化物电极的第一性原理计算

刘雪华1, 2, 3,邓芬勇1, 2,翁卫祥1, 2,王  欣1, 2,林  玮1,唐  电1, 2

(1. 福州大学 材料研究所,福州 350108;

2. 福州大学 材料科学与工程学院,福州 350108;

3. 福建工程学院 材料科学与工程学院,福州 350108)

摘 要:

采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法和局域密度近似,研究Ru掺杂SnO2形成的Sn0.875Ru0.125O2复合氧化物电极的晶体结构和电子结构,比较掺杂前后体系的能带结构、电子态密度和载流子浓度。计算表明: Ru掺杂后SnO2的晶胞体积缩小,复合氧化物电极的能带结构、电子态密度和载流子浓度均发生显著变化,导致材料的导电类型呈现近金属特性,揭示Ru掺杂后SnO2导电性能显著增强的原因是导带底附近形成的杂质能级的贡献。

关键词:

Sn基氧化物Ru掺杂第一性原理计算电子结构导电性能

中图分类号:TG174.4       文献标志码:A

First-principles calculation of Ru-doping Sn-based oxide electrode

LIU Xue-hua1, 2, 3, DENG Fen-yong1, 2, WENG Wei-xiang1, 2, WANG Xin1, 2, LIN Wei2, TANG Dian1, 2

(1. Institute for Materials Research, Fuzhou University, Fuzhou 350108, China;

2. College of Material Science and Engineering, Fuzhou University, Fuzhou 350108, China;

3. College of Materials Science and Engineering, Fujian University of technology, Fuzhou 350108, China)

Abstract: The lattice structure and the electronic properties of the composite oxide electrode, Sn0.875Ru0.125O2, formed by doping Ru into SnO2 were investigated with the ultra soft pseudo potential plane wave method and the local density approximation within density functional theory. The band structure, density of states and concentration of carrier of the Sn-based oxides before and after doping were compared. The results show that the cell volume of the system decreases and the band structure, density of states and concentration of carrier of the SnO2 all change significantly after Ru doping. All these changes lead to the similar metallic conductive mechanism of the Sn0.875Ru0.125O2. And then the physical essence of electronic structure changes leading to significant enhances of the conductive performance of the SnO2 doping Ru was revealed.

Key words: Sn-based oxides; Ru-doping; first-principles calculation; electronic structure; conductive performance

RuO2具有优越的导电性,可以被用作析氯[1-2]、析氧[3]、超电容[4]和燃料电池[5]的电极材料。但是Ru资源有限且价格昂贵,因而限制了其应用。人们发现具有金红石结构的氧化物TiO2和SnO2可以与RuO2形成固溶体[6],这类第二组元的引入可以明显增强RuO2与贵金属氧化物的之间的协同作用。大量研究发现,如果在SnO2基体中添加Ru可获得固溶体电极材料,该方法不仅可以降低成本,而且可以提高其性能。普遍应用的Ru-Sn氧化物电极材料的主要结构都是含Ru的Sn基氧化物固溶体。有研究表明[7],只要添加1.4%(质量分数)的Ru即可得到性能优良的电极材料。但Ru掺杂后SnO2的导电性发生明显改善的机理尚未见深入研究的报道,而对于与导电性直接相关的电极材料而言,电子结构的研究是解释这一现象的重要方面。因此,本文作者引入密度泛函理论的第一性原理方法,以SnO2和经Ru置换Sn形成的Sn0.875Ru0.125O2固溶体为研究体系,对其晶体结构和电子结构进行计算,对比研究添加Ru前后SnO2电极的能带结构、态密度和载流子浓度,在此基础上分析掺杂Ru对SnO2电极材料导电性能的影响,找出含Ru电极材料具备优良导电性能的物理依据,为其广泛应用提供理论上的支持。

1  研究方法

考虑到常规SnO2基氧化物电极材料以金红石为骨架结构,添加的Ru与SnO2形成Sn1-xRuxO2置换固溶体[8],故在此考虑以金红石结构为原型,其空间群为P42/mnm。对于Sn0.875Ru0.125O2固溶体,可通过在构建的SnO2的2×2×1超胞中以一个Ru原子将一个Sn原子替换来建立模型,超胞结构如图1所示,其中Ru原子的位置是无序分布的。计算工作由VASP程 序软件包完成,交换关联势采用局域密度近似LDA,波函数通过平面波来展开;经过不同条件的测试,本研究中采用6×6×6 Monkhorst-Pack特殊点对布里渊区进行分割,平面波截断能取520 eV[9-10]。详细的计算方法参见文献[11-12]。为保证计算的精度要求,本研究中自洽场的收敛标准为原子总能变化低于2×10-5 eV/atom,原子受力小于0.5 eV/nm,位移公差小于2.0×10-4 nm,最大张力不超过0.1 GPa。能量计算都在倒易空间中进行,采用周期性边界条件。由于RuO2-SnO2平衡体系的端际氧化物固溶度很低[12],Sn0.875Ru0.125O2固溶体不能稳定存在,但采用常规工艺可以在30%~70%(摩尔分数)间得到亚稳定的固溶体电极材料[2, 8, 13]。故在本计算中,本文作者构筑了不同组态的Sn0.875Ru0.125O2置换固溶体,通过几何结构优化,得到能量最低的一种固溶体组态,并假设它属于常见电极材料的结构。再利用Murnaghan状态方程式来确定平衡状态的SnO2和Sn0.875Ru0.125O2的总能和体积,从而获得折合的晶胞参数a和c,之后进一步计算体系的电子结构。

图1  Sn7Ru1O16超胞的结构示意图

Fig. 1  Supercell structure of Sn7Ru1O16

2  结果与讨论

2.1  晶体结构

图2所示为通过计算获得的掺杂前后超胞的总能与超胞体积的对应关系。由图2可知,所有计算数值均随体积增大呈现类似抛物线的变化特征,即体系总能随体积增大发生由高至低、达某一最低点后再回升的变化趋势,而此最低点则为体系总能稳定存在的状态。对这些计算数据点,采用Murnaghan 状态方程进行拟合后发现,拟合曲线与计算数据点十分吻合,说明本计算中的条件设定较为合理。表1列出经计算获得的折合的点阵常数和文献报道中的SnO2和RuO2相应数据。需指出的是,文献中尚未找到采用ab-initio原理计算Sn0.875Ru0.125O的数据。在此,将计算得到的RuO2和SnO2的晶格参数和文献报道的数据[9-10, 14]进行了比较,结果见表1。本计算中得到的两个端际氧化物的晶格参数结果与报道的理论或实验数据均很接近,与其他文献的数据相比,相对误差(ΔV/Vcard)很小(见表1),表明采用ab-initio的计算方法和计算结果是可以接受的。

图2  两种体系的总能与超胞体积(E-V)关系曲线

Fig. 2  Dependence of total energy on average cell volume for two systems

表1  SnO2、RuO2和Sn0.875Ru0.125O2的晶格参数

Table 1  Lattice parameters of SnO2, RuO2 and Sn0.875Ru0.125O2

由表1可见,与SnO2的晶胞体积相比,在SnO2中掺入12.5%(摩尔分数)的Ru后晶胞体积变小,减小值为0.00095 nm3。晶胞的收缩与Ru离子半径(0.076 nm)小于Sn离子半径(0.083 nm[15])有关。Sn0.875Ru0.125O2仍然保持金红石的构型,这是由于RuO2和SnO2的点阵参数非常接近,以至满足了Hume-Rothery条件[8],因此,在添加少量Ru的SnO2电极中,Ru4+离子可以取代Sn4+离子而形成固溶体,而前期研究[13]也表明,包括Sn0.875Ru0.125O2在内的更高Ru含量的电极材料中同样形成置换式固溶体。

2.2  能带结构和态密度

计算获得的SnO2和Sn0.875Ru0.125O2固溶体的能带结构如图3所示。需要注意的是,常规定义的费米能级在禁带的中部附近[16],而VASP软件所规定的费米能级则在价带顶部,即图3中零点为费米能级。由图3(a)中可见,未掺杂Ru的SnO2能带结构中存在禁带,其帯隙宽度在高对称性的Γ点位置出现最小值,约为1.1 eV,与HU等[4]计算的SnO2完全相同,小于实验值(约为3.6 eV)[17]。SnO2帯隙的计算结果与实验结果存在一定偏差,这是计算方法本身造成的。如前述,本文作者采用LDA局域密度近似进行计算,而该方法常常低估原子和离子的基态能量,这样就导致带隙计算结果偏低,但用该方法计算的简便性和有效性已为大家普遍接受,对此文献中已有过讨论[6, 18-19]。对照图3(a)和(b)可知,未掺杂Ru的本征态SnO2难以导电;添加Ru后,在SnO2晶格中形成了Ru离子取代型掺杂,引入了施主型杂质能级,材料呈现n型半导体特征。此代位杂质能级的宽度达到2.2 eV左右,与导带的低能部分几乎相连,导致带隙由1.1 eV降低至0.1 eV;同时还可以看出,Sn0.875Ru0.125O2的费米能级已处于施主能级之中,因此材料呈现接近金属的简并半导电体。可见,Ru掺杂改变了SnO2的导电状态和性质。

图3  SnO2和Sn0.875Ru0.125O2的能带结构图

Fig. 3  Band structures of SnO2 (a) and Sn0.875Ru0.125O2 (b)

为进一步分析添加Ru对SnO2导电性质的影响,分别计算了SnO2、Sn0.875Ru0.125O2的总态密度和分波态密度,结果如图4所示。SnO2的总态密度可分为5组峰,其中A、B和C峰属于价带, D和E峰属于导带,与NABI等[20]计算所得到的结果非常接近。位于-15.9~18.9 eV 处的A峰主要是因O 2s和Sn 5p电子态发生轨道重叠,它属深能级处的内层轨道相互作用。从约-8.3 eV至价带顶存在B和C两组峰,其中的B峰主要来自于Sn 5s-O 2p电子杂化形成的成键态。而C峰主要表现为O 2p态特征。低能级部分对应的D组峰,主要为Sn 5s-O 2p杂化后的反键态。高能部分的E组峰主要是Sn 5p的电子态,另有少量的Sn 5s和O 2p电子态的贡献。

图4  SnO2和Sn0.875Ru0.125O2总态密度(DOS)和分波态密度(PDOS)

Fig. 4  DOS and PDOS of SnO2 (a) and Sn0.875Ru0.125O2 (b)

图4(b)所示为Sn0.875Ru0.125O2固溶体的总态密度图和分波态密度分布。可以看出,Sn0.875Ru0.125O2整个体系的态密度存在明显向低能方向移动的趋势,其中B和C两组峰移动的能量约为1.2 eV。由于Ru 5s参与了与O 2p的轨道杂化,略微改变了B峰的形态。值得注意的是,添加Ru离子后,Ru在导带底形成施主型的浅杂质能级(见图4(b)中的F峰),它与导带底部只有0.1 eV的能隙,此代位杂质能级峰尖突出,说明其中做出主要贡献的Ru 4d电子态具有很强的局域特征。对图4(b)中电子的部分态密度经积分运算可得到,电子进入导带的相对电子数为2.7,说明掺杂Ru后,材料导带内电子数目明显增加,材料从本征态难以导电转变为带隙非常小之简并态半导体。这一掺杂贵金属引起的导电机制的变化现象,在SnO2中加Pd[21]和HfO2中加Ru[22]的材料中也有发现。

2.3  载流子浓度

对于导电材料来说,导电的关键是载流子的输运,它是由费米面附近的电子态所决定的[23]。掺杂前后SnO2载流子输运能力的不同还需从量的变化方面来分析。

因为Ru掺杂浓度为12.5%,属于高掺杂浓度,形成简并半导体,故电子服从费米-狄拉克分布:

                      (1)

式中:EF为Fermi能级,Ei为导带底能级,kB为波尔兹曼常数,T为热力学温度。体系的导带电子浓度(n0)为

                      (2)

式中:gc(E)为导带底附近状态密度,V为超晶胞体积。通过对总态密度(见图4(b))的积分计算可得(积分区间从导带底到费米能级),Sn0.875Ru0.125O2的电子浓度为9.64×1021 cm-3,而Ru掺杂前SnO2的电子浓度为2.62×1018 cm-3,掺杂后电子浓度增大了约4×103 倍,其中SnO2的计算结果和文献报道的1×1015~1×1018 cm-3[24-26]基本相符。根据载流子浓度计算结果,结合图3和图4可以发现,Sn0.875Ru0.125O2的导电机制与SnO2的相比,发生了显著改变,SnO2为半导体,掺杂之后的Sn0.875Ru0.125O2已经转变成为接近金属特性的简并态半导体,因而材料的导电性能显著增强。

3  结论

1) 对金红石型的SnO2和Sn0.875Ru0.125O2固溶体进行了第一性原理计算,对比分析了Ru掺杂前后SnO2的晶体结构和电子结构。掺杂12.5%Ru后,其晶胞体积减小,同时Ru的掺入导致体系的态密度明显向低能方向移动,并且在SnO2导带底附近形成施主型杂质能级,其与导带非常接近,使带隙由1.1 eV减小至0.1 ev,同时费米能级上移进入施主能级,使导电类型发生改变。经计算,掺杂后载流子浓度为9.64×1021 cm-3,较掺杂前的增大4×103倍,说明材料导电类型由半导体转变为接近金属的n型简并半导体。可见,添加少量的Ru便可极大地改善SnO2电极材料的导电性能,这一研究结果阐释了掺杂Ru的SnO2氧化物电极材料具有优良导电性能的物理基础,揭示了此类电极性能优越的物理本质,为制备与应用此类电极材料提供了理论依据。

REFERENCE

[1] 王 欣, 唐 电, 周敬恩. 添加SnO2组元对RuO2-TiO2-SnO2/Ti钛阳极组织形貌的影响[J]. 中国有色金属学报, 2002, 12(5): 920-924.

WANG Xin, TANG Dian, ZHOU Jin-en. Effects of SnO2 on microstructure, morphology of RuO2+SnO2+TiO2/Ti anode[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 2002, 12(5): 920-924.

[2] WANG Xin, TANG Dian, ZHOU Jin-en. Microstructure, morphology and electrochemical property of RuO270SnO230mol% and RuO230SnO270mol% coatings[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2007, 430: 60-66.

[3] WU Xu, TAYAL J, BASU S, SCOTT K. Nano-crystalline RuxSn1-xO2 powder catalysts for oxygen evolution reaction in proton exchange membrane water electrolysers[J]. International Journal of Hydrogen Energy, 2011, 36: 14796-14804.

[4] HU Chi-chang, CHANG Kuo-hsin, WANG Chen-ching. Two-step hydrothermal synthesis of Ru-Sn oxide composites for electrochemical supercapacitors[J]. Electrochimica Acta, 2007, 52: 4411-4418.

[5] LEE J M, HAN S B, LEE Y W, SONG Y J, KIM J Y, PARK K W. RuO2-SnO2 nanocomposite electrodes for methanol electrooxidation[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2010, 506: 57-62.

[6] STAMPFL C, VAN DE WALLE C G. Density-functional calculations for III-V nitrides using the local-density approximation and the generalized gradient approximation[J]. Physical Review B, 1999, 59: 5521-5535.

[7] WU Nae-lih, KUO Shin-liang, LEE Ming-hsueh. Preparation and optimization of RuO2-impregnated SnO2 xerogel supercapacitor[J]. Journal of Power Sources, 2002, 104: 62-65.

[8] NANNI L, POLIZZI S, BENEDETTI A, DE BATTISTI A. Morphology, microstructure, and electrocatalytic properties of RuO2-SnO2 thin films[J]. Journal of Electrochemical Society, 1999, 146: 220-225.

[9] ZHU Zhi-gang, RAMESH C D, ARUNABHIRAM C, RIADH S, HIDEYUKI T, MICHIHISA K, NOZOMU H, AKIRA E, HIROMITSU T, CARLOS A D C, MOMOJI K, AKIRA M. Enhanced gas-sensing behaviour of Ru-doped SnO2 surface: A periodic density functional approach[J]. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 2009, 70: 1248-1255.

[10] GODINHO K G, WALSH A, WATSON G W. Energetic and electronic structure analysis of intrinsic defects in SnO2[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2009, 113: 439-448.

[11] ZHU Jun-qiu, WANG Xin, YI Zhong-hua, TANG Zhong-zhi, WU Bo, TANG Dian, LIN Wei. Stability of solid-solution phase and the nature of phase separation in Ru-Zr-O ternary oxide[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2012, 116: 25832-25839.

[12] WANG Xin, DENG Fen-yong, TANG Zhong-zhi, WU Bo, TANG Dian, LIN Wei. The nature of phase separation in a Ru-Sn-O ternary oxide electrocatalyst[J]. Phys Chemistry Chemical Physics, 2013, 15(11): 3977-3984.

[13] TANG Dian, WEN Shi-xue, CHEN Shi-ren. Preparation of RuO2-SnO2 nanomaterial by sol gel technique[J]. Transactions of Metal Heat Treatment, 2000, 10: 337-339.

[14] GRACIA L, BELTRAN A, ANDRES J. Characterization of the high-pressure structures and phase transformations in SnO2: A density functional theory study[J]. Journal of Physical Chemistry B, 2007, 111: 6479-6485.

[15] MURAKAMI Y, ITO M, KAJI H, TAKASU Y. Surface characterization of ruthenium-tin oxide electrodes[J]. Applied Surface Science, 1997, 121: 314-318.

[16] 赵慧芳, 曹全喜, 李建涛. N、Ga共掺杂实现p型ZnO的第一性原理研究[J]. 物理学报, 2008, 57: 5828-5832.

ZHAO Hui-fang, CAO Quan-xi,LI Jian-tao. First principle study of N, Ga codoped P-type ZnO[J]. Acta Physica Sinica, 2008, 57: 5828-5832.

[17] DOLBEC R, KHAKANI M A E, SERVENTIA A M, TRUDEAU M, SAINT-JACQUES R G. Microstructure and physical properties of nanostructured tin oxide thin films grown by means of pulsed laser deposition[J]. Thin Solid Films, 2002, 419: 230-236.

[18] 逯 瑶, 王培吉, 张昌文, 冯现徉, 蒋 雷, 张国莲. 第一性原理研究Fe掺杂SnO2材料的光电性质[J]. 物理学报, 2011, 60: 113101-113108.

LU Yao, WANG Pei-ji, ZHANG Chang-wen, FENG Xian-yang, JIANG Lei, ZHANG Guo-lian. First-principles calculation on electronic structure and optical properties of iron-doped SnO2[J]. Acta Physica Sinica, 2011, 60: 113101-113108.

[19] PERDEW J P, LEVY M. Physical content of the exact kohn-sham orbital energies: Band gaps and derivative discontinuities[J]. Physical Review Letters, 1983, 51: 1884-1887.

[20] NABI Z, KELLO A, MECABIH S, KHALFI A, BENOSMAN N. Opto-electronic properties of rutile SnO2 and orthorhombic SnS and SnSe compounds[J]. Materials Science and Engineering B, 2003, 98: 104-115.

[21] SKALA T, VELTRUSKA K, MOROSEAC M, MATOLINOVA I, CIRERA A, MATOLIN V. Redox process of Pd-SnO2 system[J]. Surface Science, 2004, 566: 1217-1221.

[22] MUKHOPADHYAY A B, SANZ J F, MUSGRAVE C B. First-principles investigation of the structure, energetics, and electronic properties of Ru/HfO2 interfaces[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2007, 111: 9203-9210.

[23] 刘恩科, 朱秉升, 罗晋生. 半导体物理学[M]. 北京:国防工业出版社, 2008: 212-213.

LIU En-ke, ZHU Bing-sheng, LUO Jin-sheng. Physics semiconductor[M]. Beijing: National Defense Industry Press, 2008: 212-213.

[24] 郭玉忠, 王建华, 黄瑞安. 掺杂SnO2透明导电薄膜电学及光学性能研究[J]. 无机材料学报, 2002, 17: 131-138.

GUO Yu-zhong, WANG Jian-hua, HUANG Rui-an. Electrical and optical properties of transparent and conductive Sb-doped SnO2 films[J]. Journal of Inorganic Materials, 2002, 17: 131-138.

[25] SVANE A, ANTONCIK E. Electronic structure of rutile SnO2, GeO2 and TeO2[J]. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 1987, 48: 171-180.

[26] FREEMAN A J, POEPPELMEIER K R, MASON T O, CHANG R P H, MARKS T J. Chemical and thin film strategies for new transparent conducting oxides[J]. MRS Bull, 2000, 25: 45-51.

(编辑  龙怀中)

基金项目:国家自然科学基金资助项目(11374053,11104031,50971043,51171046)

收稿日期:2013-08-27;修订日期:2014-02-26

通信作者:唐  电,教授;电话:0591-22866532;E-mail:tangdian@fzu.edu.cn

摘  要:采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法和局域密度近似,研究Ru掺杂SnO2形成的Sn0.875Ru0.125O2复合氧化物电极的晶体结构和电子结构,比较掺杂前后体系的能带结构、电子态密度和载流子浓度。计算表明: Ru掺杂后SnO2的晶胞体积缩小,复合氧化物电极的能带结构、电子态密度和载流子浓度均发生显著变化,导致材料的导电类型呈现近金属特性,揭示Ru掺杂后SnO2导电性能显著增强的原因是导带底附近形成的杂质能级的贡献。

[1] 王 欣, 唐 电, 周敬恩. 添加SnO2组元对RuO2-TiO2-SnO2/Ti钛阳极组织形貌的影响[J]. 中国有色金属学报, 2002, 12(5): 920-924.

[2] WANG Xin, TANG Dian, ZHOU Jin-en. Microstructure, morphology and electrochemical property of RuO270SnO230mol% and RuO230SnO270mol% coatings[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2007, 430: 60-66.

[3] WU Xu, TAYAL J, BASU S, SCOTT K. Nano-crystalline RuxSn1-xO2 powder catalysts for oxygen evolution reaction in proton exchange membrane water electrolysers[J]. International Journal of Hydrogen Energy, 2011, 36: 14796-14804.

[4] HU Chi-chang, CHANG Kuo-hsin, WANG Chen-ching. Two-step hydrothermal synthesis of Ru-Sn oxide composites for electrochemical supercapacitors[J]. Electrochimica Acta, 2007, 52: 4411-4418.

[5] LEE J M, HAN S B, LEE Y W, SONG Y J, KIM J Y, PARK K W. RuO2-SnO2 nanocomposite electrodes for methanol electrooxidation[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2010, 506: 57-62.

[6] STAMPFL C, VAN DE WALLE C G. Density-functional calculations for III-V nitrides using the local-density approximation and the generalized gradient approximation[J]. Physical Review B, 1999, 59: 5521-5535.

[7] WU Nae-lih, KUO Shin-liang, LEE Ming-hsueh. Preparation and optimization of RuO2-impregnated SnO2 xerogel supercapacitor[J]. Journal of Power Sources, 2002, 104: 62-65.

[8] NANNI L, POLIZZI S, BENEDETTI A, DE BATTISTI A. Morphology, microstructure, and electrocatalytic properties of RuO2-SnO2 thin films[J]. Journal of Electrochemical Society, 1999, 146: 220-225.

[9] ZHU Zhi-gang, RAMESH C D, ARUNABHIRAM C, RIADH S, HIDEYUKI T, MICHIHISA K, NOZOMU H, AKIRA E, HIROMITSU T, CARLOS A D C, MOMOJI K, AKIRA M. Enhanced gas-sensing behaviour of Ru-doped SnO2 surface: A periodic density functional approach[J]. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 2009, 70: 1248-1255.

[10] GODINHO K G, WALSH A, WATSON G W. Energetic and electronic structure analysis of intrinsic defects in SnO2[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2009, 113: 439-448.

[11] ZHU Jun-qiu, WANG Xin, YI Zhong-hua, TANG Zhong-zhi, WU Bo, TANG Dian, LIN Wei. Stability of solid-solution phase and the nature of phase separation in Ru-Zr-O ternary oxide[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2012, 116: 25832-25839.

[12] WANG Xin, DENG Fen-yong, TANG Zhong-zhi, WU Bo, TANG Dian, LIN Wei. The nature of phase separation in a Ru-Sn-O ternary oxide electrocatalyst[J]. Phys Chemistry Chemical Physics, 2013, 15(11): 3977-3984.

[13] TANG Dian, WEN Shi-xue, CHEN Shi-ren. Preparation of RuO2-SnO2 nanomaterial by sol gel technique[J]. Transactions of Metal Heat Treatment, 2000, 10: 337-339.

[14] GRACIA L, BELTRAN A, ANDRES J. Characterization of the high-pressure structures and phase transformations in SnO2: A density functional theory study[J]. Journal of Physical Chemistry B, 2007, 111: 6479-6485.

[15] MURAKAMI Y, ITO M, KAJI H, TAKASU Y. Surface characterization of ruthenium-tin oxide electrodes[J]. Applied Surface Science, 1997, 121: 314-318.

[16] 赵慧芳, 曹全喜, 李建涛. N、Ga共掺杂实现p型ZnO的第一性原理研究[J]. 物理学报, 2008, 57: 5828-5832.

[17] DOLBEC R, KHAKANI M A E, SERVENTIA A M, TRUDEAU M, SAINT-JACQUES R G. Microstructure and physical properties of nanostructured tin oxide thin films grown by means of pulsed laser deposition[J]. Thin Solid Films, 2002, 419: 230-236.

[18] 逯 瑶, 王培吉, 张昌文, 冯现徉, 蒋 雷, 张国莲. 第一性原理研究Fe掺杂SnO2材料的光电性质[J]. 物理学报, 2011, 60: 113101-113108.

[19] PERDEW J P, LEVY M. Physical content of the exact kohn-sham orbital energies: Band gaps and derivative discontinuities[J]. Physical Review Letters, 1983, 51: 1884-1887.

[20] NABI Z, KELLO A, MECABIH S, KHALFI A, BENOSMAN N. Opto-electronic properties of rutile SnO2 and orthorhombic SnS and SnSe compounds[J]. Materials Science and Engineering B, 2003, 98: 104-115.

[21] SKALA T, VELTRUSKA K, MOROSEAC M, MATOLINOVA I, CIRERA A, MATOLIN V. Redox process of Pd-SnO2 system[J]. Surface Science, 2004, 566: 1217-1221.

[22] MUKHOPADHYAY A B, SANZ J F, MUSGRAVE C B. First-principles investigation of the structure, energetics, and electronic properties of Ru/HfO2 interfaces[J]. Journal of Physical Chemistry C, 2007, 111: 9203-9210.

[23] 刘恩科, 朱秉升, 罗晋生. 半导体物理学[M]. 北京:国防工业出版社, 2008: 212-213.

[24] 郭玉忠, 王建华, 黄瑞安. 掺杂SnO2透明导电薄膜电学及光学性能研究[J]. 无机材料学报, 2002, 17: 131-138.

[25] SVANE A, ANTONCIK E. Electronic structure of rutile SnO2, GeO2 and TeO2[J]. Journal of Physics and Chemistry of Solids, 1987, 48: 171-180.

[26] FREEMAN A J, POEPPELMEIER K R, MASON T O, CHANG R P H, MARKS T J. Chemical and thin film strategies for new transparent conducting oxides[J]. MRS Bull, 2000, 25: 45-51.