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退火温度对NiTi/Si膜结晶特性及力学性能的影响王玉雷,李子全,刘劲松南京航空航天大学材料科学与技术学院摘 要:采用射频磁控溅射法在NiTi膜表面沉积一层非晶硅膜而形成NiTi/Si膜,并对该膜进行了不同温度的退火处理;用XRD,SEM和纳米压痕仪研究了退火温度对NiTi/Si膜的结晶特性和力学性能的影响.结果表明:NiTi/Si膜在600℃下退火后其中的硅仍为非晶态;当退火温度在650℃后开始出现明显的结晶硅衍射峰,且随着温度升高,硅的结晶度增大,晶粒逐渐长大;而该膜的硬度和抗压痕蠕变能力逐渐降低;该膜弹性模量在650℃退火后最大.关键词:退火;NiTi/Si膜;结晶特性;力学性能;......
film; structure and morphology; Received: 1999-09-30 近年来, NiTi形状记忆合金薄膜因其优异的形状记忆功能, 在微电子技术和微型机械方面的应用上引起了人们的极大兴趣 [1,2] . 一般情况下, 由离子溅射, 离子镀或离子注入法在玻璃基板上制得的薄膜大都是非晶态, 不具备形状记忆效应. 但是提高镀膜的基板温度或经镀后热处理都可使其晶化. 目前对于NiTi薄膜的研究主要集中在Ti和Ni等原子比的薄膜上, 而对偏离等原子比较大的TiNi形状记忆合金薄膜的研究较少. 本文探讨了富钛的NiTi记忆合金薄膜的组织结构及在各种热处理工艺下组织结构的变化规律, 为NiTi形状记忆合金薄膜的实际应用提供了理论依据. 1实验 1.1试样制备 采用空心阴极离子镀......
