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PREPARATION AND SURFACE CHARACTERIZATION OF TiO2 THIN FILMS ON GLASS BY MAGNETRON SPUTTERING METHOD J.X.Zhang1,H.Shen2,L.S.Yin3 (1.Department of Physics,Zhongshan University,Guangzhou 510275,China... deposited on glass substrates by magnetron sputtering method,then sintered the Ti thin films in air atmosphere and finally TiO2 transparence thinfilms on glass substrates were obtained. The structure......
and stability, etc, for which make it being used in many fields. This paper aims to investigate the optical characterization of thin film TiO2 on silicon wafer. The TiO2 thin films were prepared by DC...OPTICAL CHARACTERIZATION OF TiO2 THIN FILM ON SILICON SUBSTRATE DEPOSITED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING D.Chen1,B.W.Wang2,H.Shen3,H.Q. Wang4,D.C. Ba5,L.S.Wen6 (1.Material and Science......
Preparation of Ce4+, Sb3+-Codoped TiO2 Films in Electric Field Heating-Treatment Zhou Feng1,Liang Kaiming2 (1.College of Electromechanical and Materials Engineering, Dalian Maritime University..., and the sol-gel process is one of the most appropriate technologies to prepare TiO2 thin films. In the present paper, the Ce4+, Sb3+-codoped TiO2 films were prepared by sol-gel method, which were heat......
TiO2与聚合物复合薄膜的离子自组装制备及表征 姜德生1,李小甫1,余海湖1,余丁山1 (1.武汉理工大学,光纤传感技术研究中心,湖北,武汉,4300701) 摘要:在常温下,以钛酸丁酯[(C4H9O)4Ti]和聚四苯乙烯磺酸钠(PSS)作为前驱物在普通载玻片上用离子自组装法制备了TiO2纳米粒子/PSS复合薄膜,复合薄膜的透过率随镀膜次数或薄膜厚度的增加而呈现周期性变化.透射电镜(TEM)测试结果表明,TiO2呈板钛矿晶体结构,薄膜连续而均匀,TiO2的平均粒径是3.6nm.光电子能谱仪(XPS)测试结果显示,薄膜中含有Ti,O,C元素,载玻片表面完全被TiO2纳米复合薄膜所覆盖. 关键词:离子自组装; TiO2纳米; 制备及表征; ionic self-assembly; TiO2 thin films; preparation and characterization......
La掺杂对TiO2薄膜性能的影响 陈浩1,厉以宇1,苏晓东2,李金泽2,黄洁2 (1.温州医学院眼视光学与视觉科学国家重点实验室培育基地,温州,325027;2.苏州大学物理科学与技术学院,江苏省薄膜材料重点实验室,苏州,215006) 摘要:用溶胶-凝胶法制备TiO2以及La掺杂TiO2的前驱体凝胶,将其均匀旋涂不同层数制备出不同厚度的薄膜,研究了La掺杂对TiO2薄膜结晶性能,表面形貌,光学特性和亲水性能的影响.结果表明:在500℃可以获得结晶性良好的锐钛矿相TiO2薄膜;随着La掺杂量的增加,薄膜中TiO2晶粒会变大,同时引起紫外可见光谱中吸收边的蓝移.掺La的TiO2薄膜经紫外照射后其接触角明显高于未掺杂样品,主要原因是到达表面的活性载流子相对减少.一方面,大的TiO2晶粒使得光生载流子到达光催化表面的路程变长,电子一空穴对的复合几率也随之变大;另一方面,未完全替代Ti的......
TiO2光催化薄膜的XPS研究 杜金成1,赵青南1,赵修建1,余家国1 (1.武汉工业大学材料复合新技术国家实验室) 摘要:利用TiO2溶胶通过浸涂技术在钠钙玻璃表面制备了TiO2光催化薄膜,根据X射线光电子能谱(XPS)对薄膜进行了表征.结果表明,薄膜中除含有+4价Ti的氧化物外,还有一定量的+3和+2价Ti的氧化物.结合有机基团燃烧的还原作用,玻璃中钠与钙离子的扩散和Ar离子刻蚀,对这种现象作了讨论.O1s的高分辨谱比文献报道的更复杂元素在薄膜内层的分布更均匀,从表面到内层,O和Ti元素的含量明显增加,而C,Na和Ca元素的浓度下降. 关键词:TiO2; 薄膜; 溶胶-凝胶法; XPS; 价态; TiO2 thin films; sol-gel method; XPS; valency state; [全文内容正在添加中] ......
纳米TiO2光触媒薄膜的制备及改性研究进展 孙以材1,何平2,张广喜1,潘国峰1,高金雍1 (1.河北工业大学信息工程学院,天津,300130;2.河北工业大学计算机软件学院,天津,300130) 摘要:根据近年来光催化技术的研究成果,从3个方面综述了纳米TiO2薄膜光触媒薄膜的研究进展:制备工艺,影响TiO2薄膜光催化活性的因素和改善其光催化效率的方法.最后,对目前TiO2光触媒研究中存在的主要问题和发展前景进行了简要评述和展望. 关键词:TiO2薄膜; 光催化反应; 光触媒; [全文内容正在添加中] ......
退火温度对纳米TiO2薄膜的乙醇气敏特性的影响 孙以材1,何平1,潘国峰1,高金雍1 (1.河北工业大学信息工程学院,天津,300130) 摘要:采用直流磁控反应溅射法分别在Al2O3陶瓷管和Si(111)基片上制备纳米TiO2薄膜.首先将样品置于马孚炉中,分别在500℃,700℃和1100℃下进行3小时退火处理,然后利用XRD测定各退火条件下TiO2薄膜的晶粒尺寸和晶型,并对样品的气体敏感特性进行测试.实验结果表明:薄膜的结构,晶粒尺寸,晶相和气敏特性随着退火温度的不同而变化,经过500℃×3小时退火后的TiO2薄膜(锐钛矿相)对乙醇蒸汽的灵敏度最高,响应(恢复)时间为2-3s,并具有很好的选择性,其最佳工作温度为280℃左右.最后讨论了薄膜的乙醇气敏机理. 关键词:TiO2薄膜; 退火温度; 乙醇气敏特性; 灵敏度; TiO2 thin films; annealing......
纳米粉湿化学沉积制备TiO2薄膜及电致变色性能研究 谷臣清1,方吉祥1,赵康1 (1.西安理工大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710048) 摘要:利用回流胶溶在液相中一步合成金红石型TiO2纳米粉体,并采用纳米粉液相成膜新方法,低温下制备出纳米金红石相TiO2薄膜,通过xRD,TEM及循环伏安法对TiO2纳米粉及薄膜的性能进行了表征.结果表明:经300℃煅烧制得的TiO2薄膜即为金红石相,粒径大小较其纳米粉相比,无明显长大趋势;该薄膜显示较好的电致变色性能及电化学循环稳定性. 关键词:TiO2纳米粉; TiO2薄膜; 粉体湿法成膜; 胶溶; 电致变色; [全文内容正在添加中] ......
低压MOCVD生长TiO2薄膜结构和电性能研究 侯云1,许效红2,王栋1,王卓1,王弘1,王民1 (1.山东大学,晶体材料国家重点实验室,山东,济南,250100;2.山东大学,晶体材料国家重点实验室,山东,济南,250100;山东大学,化学与化工学院,山东,济南,250100) 摘要:采用低压MOCVD法沉积生长了TiO2薄膜,研究了Si衬底取向,退火温度,退火时间,退火气氛对其结构和电性能的影响.结果表明,500℃下沉积生长于Si(111)和Si(100)上的TiO2薄膜为锐钛矿相多晶膜,经过600℃以上退火处理后,均可转变为纯金红石相结构.其中,Si(111)上的TiO2薄膜更容易转变为金红石相结构,而Si(100)上的TiO2薄膜,需要更高的退火温度和更长的退火时间才能转变为金红石结构.结果还表明,退火气氛中的氧分压的大小对TiO2薄膜的结构无明显的影响. 关键词:金属有......