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PVD溅射电流对SiC纤维表面Ti3Al涂层组织结构的影响王敏涓,黄浩,解川,黄旭,李臻熙北京航空材料研究院先进钛合金航空科技重点实验室摘 要:采用磁控溅射物理气相沉积(PVD)法在SiC纤维表面进行Ti3Al涂层的制备,研究了该过程中PVD溅射电流对Ti3Al涂层组织结构的影响规律.通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对Ti3Al涂层的沉积率,组成物相,晶粒大小,组织结构和表面形貌等进行了观察与分析.研究结果表明,磁控溅射PVD法制得的Ti3Al涂层组成物相与靶材一致,但涂层生长择优取向发生了变化.随着溅射电流的增大,Ti3Al涂层沉积率提高,平均晶粒尺寸增大.此外,涂层的微观形貌为柱状晶组织,但随着溅射电流的增加,涂层表面因粒子溅射辐照温度的升高而升温,同时晶......
PVD法制备6.5%Si高硅钢过程合金磁性能演化机理研究马天国1,李辉2,田广科1,3,毕晓昉31. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心2. 开封大学机械与汽车工程学院3. 北京航空航天大学材料科学与工程学院摘 要:PVD法制备Fe-6.5%Si(质量分数,下同)高硅钢过程基片预处理工艺以及Si渗入对合金的软磁性能均有显著影响.采用磁损耗分离的方法剖析铁硅合金磁性变化的内在机理.采用四探针方法测试合金的电阻率;采用基于热分析仪(DSC)配置永磁场技术测量热重(TG)曲线确定合金的居里温度;采用振动样品磁强计(VSM)测定了材料的饱和质量磁矩;采用直流测试装置和硅钢测试仪测试合金的直流交流软磁性能.PVD法制备6.5%Si高硅钢最大磁导率达到16 400,相比于初始态3%低硅钢基片,铁损值降低40%50......
PVD法渗Si制备6.5%Si高硅钢过程组织结构与性能演化研究田广科1,2,孙勇1,孔令刚1,毕晓昉21. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心2. 北京航空航天大学材料科学与工程学院摘 要:基于物理气相沉积(PVD)之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富Si膜,然后高温真空扩散处理使Si渗入低硅钢基体...%提高到6.5%,且沿厚度方向Si浓度分布均匀.相比于初始态低硅钢基片,PVD法制成6.5%Si高硅钢中高频铁损值降低40%50%.关键词:6.5%Si高硅钢;磁控溅射;扩散;组织结构;磁性能;......
不同结构PVD涂层刀片对铣削模具钢耐磨性的影响史玉凯,雷学林,何云,高阳华华东理工大学机械与动力工程学院摘 要:本文研究了5种PVD薄膜(TiAlN+TiAlSiN双层结构,TiAlN+AlCrN双层结构,TiAlSiN+TiSiN复合多层结构,TiAlSiN+TiSiN双层结构,AlCrN+TiSiN复合多....5种PVD薄膜涂层刀片切削模具钢的磨损机理主要为粘着磨损,磨粒磨损和氧化磨损.本文研究结果对模具钢的高效涂层刀片的选取具有一定的指导意义.关键词:模具钢;磨损机理;PVD涂层;双层结构;复合多层结构;......
Forming-free flexible memristor with multilevel storage for neuromorphic computing by full PVD techniqueTian-Yu Wang,Jia-Lin Meng,Qing-Xuan Li,Lin Chen,Hao Zhu,Qing-Qing Sun,Shi-Jin Ding,David Wei... of flexible electronics.The physical vapor deposition(PVD) fabrication process could prepare RRAM without requirement of further treatment,which greatly simplified preparation steps and reduced......
PVD涂层刀具高速铣削砂岩表面粗糙度研究苏晓云,闫秀丽,张海宁包头钢铁职业技术学院摘 要:砂岩装饰品已逐渐走进人们的生活,提高砂岩加工表面质量已备受关注.利用正交试验,研究PVD涂层刀具高速铣削砂岩的切削速度,进给速度及切削深度对加工表面粗糙度的影响.分析了表面粗糙度随不同切削参数的变化规律:随着进给速度与切削深度的增加,表面粗糙度值变大,随着切削速度的增加,表面粗糙度值减小,当切削速度由3000r/min提高到12000r/min时,表面粗糙度值由4.98μm减小到3.64μm.建立了表面粗糙度的回归预测模型,经F检验具有较高的显著性,为实际生产加工砂岩制品提供了一定理论依据与参考价值.关键词:砂岩;PVD涂层刀具;表面粗糙度;高速铣削;切削参数;......
物理气相沉积制备ZrMoN薄膜的腐蚀行为郑传波,陈曦,蔡远飞江苏科技大学材料科学与工程学院摘 要:采用物理气相沉积(PVD)技术在304不锈钢表面沉积ZrMoN薄膜,利用扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD)和电化学测试等方法对不同温度下ZrMoN薄膜的表面形貌,相结构和腐蚀行为进行研究.结果表明:除...:PVD技术;腐蚀行为;双极板材料;ZrMoN薄膜;......
Local Enrichment of Active Element Y in Y-modified PVD Films on Mild Steel Substrate刘长清,吴维旻,金柱京,戴少侠,王文浩摘 要:<正> By means of EPMA,SIMS and XTEM tech-niques,the element distribution at the transitionzone of Y-modified ion plated titanium andtitanium nitride film on A3 steel substrate and thevariation of the element content on the surface ofthe......
粉末冶金法多弧离子镀(PVD)用钛靶材的制备 赵峰1,梁振锋1,李华1,陈平1,苏东艺2 (1.广州有色金属研究院国家钛及稀有金属粉末冶金工程中心,广州,510651;2.广州金泰表面处理技术工程公司,广州,510651) 摘要:概要介绍了用粉末冶金工艺制备磁控溅射沉积TiN膜用钛靶的方法,探讨了其技术,经济可行性.结果表明,该方法制备钛靶是可行的,并可推广应用于其它钛复合靶,钛合金,钛化合物靶制备. 关键词:磁控溅射; 钛靶; 粉末冶金; [全文内容正在添加中] ......
不同PVD技术沉积TiN涂层的形貌和力学性能研究(英文)王明娥1,2,马国佳2,刘星2,董闯11. 大连理工大学2. 北京航空工业制造研究所高能束流加工技术重点实验室摘 要:采用阴极弧沉积,中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层.通过扫描电镜,XRD谱,微米划痕测试,硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比.结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面,较高的结合力和硬度,故磨损率较低.关键词:物理气相沉积;TiN涂层;摩擦磨损;复合沉积;......