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微异型接点带制备方法的研究现状 王欣平1,范金铎1,余前春1 (1.有研亿金新材料股份有限公司,北京,102200) 摘要:回顾了微异型接点带制备方法的研究现状,介绍了目前常用的制备方法:电镀+轧制,爆炸复合+拉拔成型,滚焊复合+拉拔成型等及它们的优缺点.分析了目前存在的问题. 关键词:金属材料; 微异型接点带; 电镀; 爆炸复合; 滚焊复合; PVD和CVD; [全文内容正在添加中] ......
低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响 华学明1,三宅正司2,李铸国1,吴毅雄1 (1.上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030;2.近畿大学,大阪,5778502,日本) 摘要:用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长,结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小. 关键词:TiN薄膜; 物理气相沉积(PVD); 择优取向; 离子照射; [全文内容正在添加中] ......
PVD溅射电流对SiC纤维表面Ti3Al涂层组织结构的影响王敏涓,黄浩,解川,黄旭,李臻熙北京航空材料研究院先进钛合金航空科技重点实验室摘 要:采用磁控溅射物理气相沉积(PVD)法在SiC纤维表面进行Ti3Al涂层的制备,研究了该过程中PVD溅射电流对Ti3Al涂层组织结构的影响规律.通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对Ti3Al涂层的沉积率,组成物相,晶粒大小,组织结构和表面形貌等进行了观察与分析.研究结果表明,磁控溅射PVD法制得的Ti3Al涂层组成物相与靶材一致,但涂层生长择优取向发生了变化.随着溅射电流的增大,Ti3Al涂层沉积率提高,平均晶粒尺寸增大.此外,涂层的微观形貌为柱状晶组织,但随着溅射电流的增加,涂层表面因粒子溅射辐照温度的升高而升温,同时晶......
PVD法制备6.5%Si高硅钢过程合金磁性能演化机理研究马天国1,李辉2,田广科1,3,毕晓昉31. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心2. 开封大学机械与汽车工程学院3. 北京航空航天大学材料科学与工程学院摘 要:PVD法制备Fe-6.5%Si(质量分数,下同)高硅钢过程基片预处理工艺以及Si渗入对合金的软磁性能均有显著影响.采用磁损耗分离的方法剖析铁硅合金磁性变化的内在机理.采用四探针方法测试合金的电阻率;采用基于热分析仪(DSC)配置永磁场技术测量热重(TG)曲线确定合金的居里温度;采用振动样品磁强计(VSM)测定了材料的饱和质量磁矩;采用直流测试装置和硅钢测试仪测试合金的直流交流软磁性能.PVD法制备6.5%Si高硅钢最大磁导率达到16 400,相比于初始态3%低硅钢基片,铁损值降低40%50......
不同结构PVD涂层刀片对铣削模具钢耐磨性的影响史玉凯,雷学林,何云,高阳华华东理工大学机械与动力工程学院摘 要:本文研究了5种PVD薄膜(TiAlN+TiAlSiN双层结构,TiAlN+AlCrN双层结构,TiAlSiN+TiSiN复合多层结构,TiAlSiN+TiSiN双层结构,AlCrN+TiSiN复合多....5种PVD薄膜涂层刀片切削模具钢的磨损机理主要为粘着磨损,磨粒磨损和氧化磨损.本文研究结果对模具钢的高效涂层刀片的选取具有一定的指导意义.关键词:模具钢;磨损机理;PVD涂层;双层结构;复合多层结构;......
PVD法渗Si制备6.5%Si高硅钢过程组织结构与性能演化研究田广科1,2,孙勇1,孔令刚1,毕晓昉21. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心2. 北京航空航天大学材料科学与工程学院摘 要:基于物理气相沉积(PVD)之直流磁控溅射镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富Si膜,然后高温真空扩散处理使Si渗入低硅钢基体...%提高到6.5%,且沿厚度方向Si浓度分布均匀.相比于初始态低硅钢基片,PVD法制成6.5%Si高硅钢中高频铁损值降低40%50%.关键词:6.5%Si高硅钢;磁控溅射;扩散;组织结构;磁性能;......
精密陶瓷PVD CVD涂层技术的发展与应用唐华生北京粉末冶金研究所摘 要:<正>精密陶瓷是硬度仅次于金刚石,立方氮化硼(CBN)的超硬材料,此外还具有很高的耐热,耐腐蚀性能.但是由于其脆性而使应用受到很大局限,因此研究以强度或韧性高的金属或塑料等作基体的陶瓷涂层技术很受重视.例如,工业发达国家生产的硬质合金机夹刀片中,约50%经过涂层处理,因此涂层技术成为加工工具中很重要的技术而得到发展.关键词:......
Forming-free flexible memristor with multilevel storage for neuromorphic computing by full PVD techniqueTian-Yu Wang,Jia-Lin Meng,Qing-Xuan Li,Lin Chen,Hao Zhu,Qing-Qing Sun,Shi-Jin Ding,David Wei... of flexible electronics.The physical vapor deposition(PVD) fabrication process could prepare RRAM without requirement of further treatment,which greatly simplified preparation steps and reduced......
PVD NiAl化合物涂层的滑动磨损特性研究 周广宏1,章跃1 (1.淮阴工学院机械工程系,) 摘要:用射频磁控溅射法及一个由纯Ni和纯Al复合的特制靶材制备NiAl涂层,该涂层厚约10μm,硬度和弹性模量分别为11.52GPa和143.42GPa.研究表明,涂层的高硬度,低的表面粗糙度,较好的抗氧化性能及与基体之间良好的粘附性能是涂层具有良好耐磨性能的主要原因. 关键词:NiAl金属间化合物; 涂层; 射频磁控溅射; 滑动磨损; [全文内容正在添加中] ......
镍基合金微粒PVD法表面涂铬研究 范洪远1,应诗浩2,向文欣2,沈保罗1,李伟1 (1.四川大学,成都,610065;2.中国核动力研究设计院,成都,610041) 摘要:本文研究了用直流磁控溅射技术在75~150μm的镍基合金微粒表面包覆10μm左右的金属铬涂层的方法,讨论了工艺的影响和涂层的性能,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面获得均匀,完整的厚铬涂层,微粒的预处理和后处理对涂层的附着性有重要影响. 关键词:镍基合金; 微粒; 涂层; 直流磁控溅射; 铬; [全文内容正在添加中] ......