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离子束辅助沉积TiN薄膜在模拟口腔溶液中的耐蚀性李国明1,孙世尧2,陈学群11. 海军工程大学理学院化学与材料系2. 中国人民解放军第161医院摘 要:应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜,在模拟口腔环境溶液中测定了其自腐蚀电位,腐蚀电流密度,极化电阻,极化曲线,并用未经表面镀膜的铁铬钼合金进行了对比.结果表明:经TiN薄膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高;当氮气流量为1.5cm3/min,溅射时间为4 h,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜在口腔溶液中的耐腐蚀性能最好.关键词:Fe-Cr-Mo软磁合金;离子束辅助沉积;耐蚀性能;......
TC4钛合金表面渗碳复合TiN(Ti)膜层的抗冲蚀性能王彦峰,李争显,杜继红,张长伟摘 要:为了改善硬质膜层的抗冲蚀性能,采用辉光离子扩渗及等离子增强电弧离子镀技术,在TC4合金表面制备了具有梯度渗碳及TiN(Ti)膜层的复合渗镀层,并分析了结构对于复合渗镀层性能的影响.结果表明,相对于未强化的TC4基体表面单层TiN及12周期复合Ti/TiN膜层,复合渗镀层的显微硬度及膜/基结合强度均得到了提高.冲蚀试验表明,TC4基体未渗碳前,表面单层TiN膜层呈现出脆性冲蚀开裂机制,12层复合Ti/TiN膜层由于多层复合结构的增韧效应,呈现出层状剥落及"冲蚀窝"损伤形貌.渗碳后,复合渗镀层的抗冲击韧性得到提高,单层TiN膜层在冲蚀条件下的膜/基界面脆性开裂明显被抑制.渗碳复合12周期Ti/TiN的复合渗镀层具有......
TiN基IrO2+Ta2O5涂层电催化性能研究 许立坤1,徐海波2,成光2,王廷勇1,姜俊峰2,王佳2 (1.海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室,中国船舶重工集团七二五研究所青岛分部,山东,青岛,266071;2.中国海洋大学,山东,青岛,266003;3.金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016) 摘要:采用热分解法制备了一种以离子镀TiN膜为基体的IrO2+Ta2O5涂层电极,通过极化曲线,循环伏安,电化学阻抗谱等电化学方法并结合扫描电镜,X射线能谱和X射线衍射研究了涂层的析氧电催化活性,并对460℃制备的涂层进行强化寿命实验.结果表明:涂层呈多孔,多裂纹的显微结构和多层电化学结构;制备温度对涂层表面形貌和电催化活性影响很大:该涂层阳极在保持了高电催化活性的同时,其使用寿命高于传统Ti基阳极,说明TiN作为此类催化电极的载体是可行的. 关键词:TiN; IrO2......
首饰用千足硬金制造工艺探讨钟祥涛1,王慧21. 揭阳职业技术学院机电工程系2. 国家珠宝玉石质量监督检验中心深圳实验室摘 要:首饰用千足硬金是近年来珠宝市场上出现的新品种,其硬度是普通千足金硬度的2~3倍,具有纯度高,耐磨性好,可塑性强的优点.目前市场上硬金产品的生产工艺主要分为电铸法和熔金冶炼法两种,但就其具体的工艺而言,商家一直秘而不宣.笔者在查阅了大量相关文献的基础上,借鉴其他金属材料学科提高材料硬度的手段,提出了通过黄金时效强化,黄金表面覆TiN膜等生产硬金的可行性新方案,希望能为以后的研究者研究硬金制造工艺提供一个参考.关键词:珠宝首饰;千足硬金;时效强化;渗氮;TiN膜;......
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真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究 张泰华1,王秀兰2,刘洪源2,刘文言2 (1.中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室,北京,100080;2.航天材料及工艺研究所,北京,100076) 摘要:采用真空磁过滤电弧离子镀方法,在GT35基体上沉积类金刚石膜.通过对清洗工艺及弧电流,工件所加负偏压,沉积温度等参数的研究,制定出了合理的工艺路线,并对这种膜层进行了X-射线光电子谱(XPS)分析,利用干涉仪,纳米硬度计对膜层的粗糙度,纳米硬度作了进一步检测.结果表明,采用此种方法制备的类金刚石膜层,SP3含量约为40.1%;组织致密,无大的颗粒;镀膜后的粗糙度可以达到0.015 μm;纳米硬度约为55 GPa.并将膜层与TiN膜层组成摩擦副,进行了耐磨性试验,结果表明膜层的耐磨性较好. 关键词:真空磁过滤电弧离子镀; 类金刚石; 耐磨性; [全文内容正在添加......
真空阴极离子镀法制备Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜 洪瑞江1,余志明2,李福球2,代明江1,林松盛1 (1.广州有色金属研究院,广东,广州,510651;2.中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083) 摘要:过去,在不锈钢上沉积10μm以上多元多层软硬交替Ti/TiN/Zr/ZrN厚膜用以提高材料耐腐蚀性能的报道不多.采用阴极电弧离子镀结合脉冲偏压的方法制备了厚度选15 μm的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜.运用扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD),显微硬度计,划痕仪等考察了多层膜的形貌,厚度,相组成,硬度以及膜/基结合力,并利用电化学方法评价了基体,单层TiN薄膜以及多层膜的电化学腐蚀性能.结果表明:制备的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜界面明晰,结构致密,晶粒细小;膜/基结合力大于70 N,显微硬度达28 GPa;多层膜比单层TiN膜在提高......
Cu焊盘TiN/Ag金属化层超声键合性能及抗氧化性能田艳红1,王春青1,赵少伟2(1.黑龙江省哈尔滨市哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室2.四川西南电子设备研究所)摘 要:通过磁控溅射沉积TiN/Ag金属化层作为Cu焊盘的保护层,非晶态的TiN膜作为阻挡层,阻止Cu原子的向外扩散;选择能够与Au丝形成固溶体的Ag薄膜作为键合层,提高超声键合性能.超声键合性能测试和抗氧化性能测试表明,TiN/Ag金属化层结构作为Cu焊盘保护层,具有较好的键合能力,其键合能力和焊点剪切强度在20-180℃的温度范围内随着温度的升高而升高,在180℃时获得了100%的键合能力,剪切断裂发生在Au球与TiN/Ag键合面.TiN/Ag金属化层较相同厚度的Ag膜具有更强的抗氧化性能,原因在于非晶态TiN层对Cu原子的扩散起......
基于脉宽参量的TiN纳米晶薄膜制备及其性能?乔泳彭,蒋百灵,丁郁航,张静西安理工大学摘 要:采用大功率脉冲溅射离子镀技术在不同脉宽条件下制备了一组TiN离子镀层,并通过XRD,SEM,AFM等手段对膜层的微观形貌,生长模式及相关力学性能进行了分析研究.结果表明:随着脉宽的增大,TiN膜层的瞬时沉积速率提高,膜层内部的晶化程度逐渐增强,薄膜晶粒尺寸有所增大,微观形貌显示为较典型的TiN(111)三角锥形以及柱状生长,颗粒尺寸及表面粗糙度均随脉宽的延长而增大,膜层整体无明显孔隙等缺陷存在.通过对H/E值的分析可以看出,较小脉宽条件下制备的膜层综合性能较好,可以获得较高的膜层硬度以及较大的硬度-模量比.关键词:脉宽参量;TiN薄膜;纳米晶;微观结构;力学性能;......
多弧离子镀制备TiN涂层的高温抗氧化性能研究袁琳,高原,张维,王成磊,蔡航伟,马志康桂林电子科技大学材料科学与工程学院摘 要:在201不锈钢上进行多弧离子镀沉积TiN涂层,研究了TiN涂层在400~800℃间的高温氧化性能.对涂层氧化后的表面形貌,表面成分等进行了研究.用热重(TG)法和差示扫描量热(DSC)法分析粉末试样的加热氧化情况.结果表明:氧化温度较高时,增重量大且氧化严重,随着氧化温度的升高,表面氧元素含量上升,氮元素含量下降;经过600℃氧化,TiN膜层开始出现局部氧化皮.热分析结果表明:TiN粉末在450℃开始发生增重,氧化总增重量为26.63%.起始氧化温度为623.7℃,放热焓为-2112μVs/mg.关键词:TiN涂层;氧化;热分析;......