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TC4钛合金表面磁控溅射TiAlN涂层的组织与性能潘晓龙,刘啸锋,王少鹏西北有色金属研究院摘 要:采用TiAl合金靶材,在TC4钛合金基材表面以不同磁控溅射工艺沉积制备了TiAlN涂层.利用扫描电子显微镜(SEM),能谱仪(EDS),X射线衍射仪(XRD)分别分析了不同工艺制备的TiAlN涂层的表面形貌,表面成分及相结构,并对TiAlN涂层的耐蚀性,耐磨性等进行了研究.结果表明,采用磁控溅射工艺可在TC4钛合金表面制备出表面相对平整且结构致密的TiAlN涂层;沉积了TiAlN涂层的TC4钛合金试样的表面性能得到了提高,其磨损失重量和TC4钛合金基材相比降低了80%,耐盐雾腐蚀性能达到了保护级9级.关键词:TC4钛合金;TiAlN涂层;磁控溅射;耐蚀性;耐磨性;......
脉冲偏压占空比对电弧离子镀TiAlN涂层的影响付志强,苗志玲,岳文,王成彪,康嘉杰,朱丽娜,彭志坚中国地质大学(北京)工程技术学院摘 要:通过优化电弧离子镀工艺参数改善TiAlN涂层结构及性能对TiAlN涂层应用具有重要的实用价值.本研究利用脉冲偏压电弧离子镀制备了TiAlN涂层,研究了偏压占空比对TiAlN涂层结构及性能的影响,结果发现:随着占空比增加,涂层表面缺陷密度和表面粗糙度先降低后增大,占空比为70%时,制备的涂层表面缺陷密度和表面粗糙度最低.随着占空比增加,涂层的硬度和耐磨性得到明显改善,但占空比超过50%后继续增加占空比反而降低了涂层的硬度和耐磨性.TiAlN涂层与Si3N4球对磨时的主要磨损机制为黏着磨损和氧化磨损.关键词:电弧离子镀;脉冲偏压;占空比;TiAlN涂层;......
AFM Analysis of TiN, TiAlN, and TiAlSiN Coatings Prepared by Cathodic Arc Ion Plating王文昌1,ZHANG Ling2,孔德军2,31. School of Petrochemical Engineering, Changzhou University2. College of Mechanical Engineering,Changzhou University3. Jiangsu Key Laboratory of Materials Surface Science and Technology, Changzhou University摘 要:The TiN, TiAlN, and TiAlSiN......
氮氩比对模具钢表面镀TiAlN薄膜形貌和性能的影响吴浩龙,王天国湖北汽车工业学院材料科学与工程学院摘 要:采用多弧离子镀技术在H13模具钢表面沉积TiAlN薄膜,氮气作为反应气体,氮氩比大小严重影响膜层的形貌和性能.为探究氮氩比对TiAlN薄膜形貌和性能的影响,采用扫描电镜,硬度,结合力测试,高温氧化试验及电化学测试等方法研究了不同氮氩比对薄膜表面和截面形貌,耐腐蚀性能和抗氧化性的影响.结果表明:随着氮氩比的增加,TiAlN薄膜表面大颗粒数目逐渐减小,薄膜更加致密,孔隙率降低;当氮氩比为8∶2时,TiAlN薄膜的硬度达到最大值2 576.7 HV,膜基结合力达到最大值29.1 N,具有最佳的高温抗氧化性能;当氮氩比为9∶1时,其耐腐蚀性能达到最佳.关键词:氮氩比;TiAlN薄膜;耐腐蚀性......
真空阴极电弧制备TiAlN涂层的硬度及摩擦学性能研究陈锋光,柯培玲,汪爱英中国科学院宁波材料技术与工程研究所摘 要:采用真空阴极电弧制备了TiAlN涂层,研究了N2气压和基体负偏压对涂层硬度的影响规律,分析了涂层的致硬机理,探讨了硬度对摩擦学性能的影响.结果表明,N2降低入射离子能量,降低增原子扩散,导致晶粒细化;基体负偏压增大入射离子能量,导致涂层致密化并依次出现(200),(111),(220),(200)择优取向.TiAlN涂层的硬度受Ti,Al,N原子间键能,生长面择优取向及晶粒显微组织的影响,其中最薄弱因素起决定作用.摩擦学性能研究表明,高硬度TiAlN涂层易形成磨粒磨损,摩擦系数和磨损率高;低硬度TiAlN涂层易发生粘着磨损,摩擦系数和磨损率低.关键词:TiAlN;N2气压......
EFFECT OF ANNEALING TREATMENT ON THE STRUCTURE OF CdS FILMS K.J.Liao1,G.B.Liu1,C.G.Hu1,L.H.Feng2,Q.Feng1,W.L.Wang1 (1.Department of Applied Physics, Chongqing University, Chongqing 400044, China...) Abstract:The effect of annealing treatment on the structure of CdS films was investigated.The cadmium sulfide thin films were prepared by chemical bath deposition, and were annealed at nitrogen atmosphere......
钛合金表面多弧离子镀TiAlN薄膜微观组织结构及性能研究袁建鹏摘 要:采用多弧离子镀技术在TC11钛合金基体上沉积了TiAlN涂层.金相截面组织观察和扫描电镜表面形貌照片显示,制备出的膜层连续,光滑,孔隙率低,组织致密;X射线衍射分析表明,膜层的相结构中大致含有以下组成相:(Ti,Al)N,Ti2AlN,Ti.用EDS能谱分析对膜层中的元素含量进行了测定,发现Al元素出现了成分负偏析.性能测试表明,TiAlN膜具有较高的硬度和膜/基结合力.关键词:多弧离子镀;TiAlN涂层;TC11钛合金;微观结构;性能;......
Nb添加对TiAlN涂层结构,力学和热性能的影响刘慧君,吴明晶,王社权中南大学粉末冶金国家重点实验室株洲钻石切削刀具股份有限公司摘 要:为了改善切削刀具表面常用的TiAlN涂层的性能,采用阴极弧蒸发方法在硬质合金,低合金钢,刚玉片和钨基体上制备了TiAlN和TiAlNbN涂层,借助差示扫描量热仪(DSC),扫描电子显微镜(SEM),X射线能量色散谱仪(EDX),X射线衍射仪(XRD)和纳米压痕仪研究了Nb添加对TiAlN涂层的结构,力学及热性能的影响.结果表明:制备的Ti0.46Al0.54N,Ti0.40Al0.53Nb0.07N和Ti0.34Al0.52Nb0.14N涂层均为亚稳的面心立方结构,其硬度分别为30.1±0.4 GPa,29.7±0.4 GPa和29.6±0.7 GPa;Nb添加提高了......
强流脉冲电子束表面处理对TiAlN涂层刀具的组织结构及性能的影响娄长胜,芦馨,金光,高景龙,张罡沈阳理工大学材料科学与工程学院摘 要:采用强流脉冲电子束表面改性技术对TiAlN涂层刀具表面进行轰击处理.利用扫描电镜,X射线衍射仪研究轰击次数对TiAlN涂层刀具表面形貌,涂层厚度及物相组成的影响,检测TiAlN涂层的显微硬度和粗糙度,并对轰击前后涂层刀具的切削性能进行分析.结果表明:随着轰击次数的增加,涂层的厚度减小,涂层表面在微区范围内更致密,光滑,显微硬度则先小幅提高后急剧下降,而涂层的物相组成基本保持不变.与原始刀具的切削性能相比,轰击后的涂层刀具切削速率小幅提高,而刀具后刀面磨损有所下降.关键词:强流脉冲电子束;TiAlN涂层刀具;力学性能;切削性能;......
多弧离子镀TiAlN薄膜的制备及其抗氧化性能梁启超,王天国湖北汽车工业学院材料科学与工程学院摘 要:目前,关于氮氩比对TiAlN薄膜高温抗氧化性能影响的研究较少.采用多弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,利用SEM,XRD等方法研究氮氩流量比对薄膜组织结构,表面形貌和抗氧化性的影响.结果表明:TiAlN薄膜呈δ-TiN面心立方晶体结构;随着氮氩流量比的提高,薄膜表面熔滴数量显著下降,膜层表面更加平整光滑,相结构的择优取向发生改变,硬度先增大后趋于稳定,表面氧化物含量逐渐下降;当氮氩流量比为9∶1时,所得TiAlN薄膜在800℃氧化温度下,其表面会生成一层致密的Al2O3保护膜,有效阻止了薄膜被进一步氧化,具有良好的抗氧化性能.关键词:多弧离子镀;TiAlN薄膜;氮氩流量比;M2......