缓冲层对NiCo薄膜各向异性磁致电阻的影响

来源期刊：工程科学学报2008年第5期

论文作者：姜宏伟 季红 周丽萍 王艾玲 郑鹉

文章页码：513 - 516

关键词：磁性薄膜;缓冲层;各向异性磁致电阻;织构;晶粒尺寸;

摘    要：用磁控溅射法制备了以NiFeCr和Ta分别为缓冲层的两种NiCo薄膜样品,在不同温度下对两种样品退火.结果表明:在NiCo厚度相同的情况下,以NiFeCr作为缓冲层的样品的各向异性磁致电阻(AMR)值明显高于Ta作为缓冲层的样品.X射线衍射(XRD)的结果表明,NiFeCr/NiCo薄膜的晶粒平均尺寸大于Ta/NiCo薄膜,且两种样品的磁膜/缓冲层界面存在较大差异,这可能是造成两者AMR差异的原因.此外,对样品进行温度适当的热处理可以明显改善薄膜的物理性质.