磁路结构及材料参数对磁流变抛光区磁场的影响

来源期刊：磁性材料及器件2015年第6期

论文作者：郑永成 黄文 何建国

文章页码：50 - 53

关键词：磁路;磁感应强度;气隙;磁轭;磁极,磁导率;

摘    要：针对磁流变抛光设备中磁路的结构特点,利用简化的二维模型,基于有限元软件ANSYS,分析了磁路相关参数对抛光区域磁感应强度和分布的影响,具体包括磁路所用导磁材料的磁导率、饱和磁感应强度、气隙长度、磁轭截面积、磁极形状和线圈冷却结构等因素。结果表明,对类似结构的磁路设计,应参考以下几条原则:选用磁导率和饱和磁感应强度高的材料,气隙长度对磁感应强度与分布均有影响,而磁轭截面只需保证材料工作在高导磁线性区即可,磁极形状和线圈冷却结构对抛光区域磁感应强度影响可忽略。