用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积表面处理新工艺
来源期刊：磁性材料及器件2000年第4期
论文作者：何水校
关键词：气相沉积; 软磁铁氧体; 表面处理工艺;
摘 要：报道了一种用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积(VDP)新工艺,简要介绍了VDP的工艺过程和工艺特点,并对这一新工艺的优点和存在的问题作了初步分析.VDP工艺同样可用于NdFeB等稀土永磁元件的表面处理.
何水校1
(1.中国西南应用磁学研究所,四川绵阳,621000)
摘要:报道了一种用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积(VDP)新工艺,简要介绍了VDP的工艺过程和工艺特点,并对这一新工艺的优点和存在的问题作了初步分析.VDP工艺同样可用于NdFeB等稀土永磁元件的表面处理.
关键词:气相沉积; 软磁铁氧体; 表面处理工艺;
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