脉冲激光沉积法制备VO_2热致变色薄膜研究进展
来源期刊:材料工程2009年第12期
论文作者:黄毅泽 张伟 李毅 俞晓静 王海方 朱慧群 张虎
关键词:脉冲激光沉积; VO_2; 薄膜; 制备; 掺杂; pulsed laser deposition; VO_2; thin film; fabrication; doping;
摘 要:基于半导体和金属间的相变特性,伴随着温度、电场、压力的变化,具有相关智能特性的VO_2薄膜材料具有较大的应用潜力.本文主要阐述脉冲激光沉积技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍脉冲激光沉积制备VO_2薄膜材料的工艺参数和国内外研究进展,并与几种常规制备方法进行对比,给出脉冲激光沉积掺杂对VO_2薄膜材料特性的影响,以及采用脉冲激光沉积制备VO_2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备具有智能特性的VO_2薄膜材料存在的问题和发展方向.
黄毅泽1,张伟1,李毅1,俞晓静1,王海方1,朱慧群1,张虎1
(1.上海理工大学,光学与电子信息工程学院,上海,200093;
2.上海市现代光学系统重点实验室,上海,200093;
3.五邑大学,薄膜与纳米材料研究所,广东,江门,529020)
摘要:基于半导体和金属间的相变特性,伴随着温度、电场、压力的变化,具有相关智能特性的VO_2薄膜材料具有较大的应用潜力.本文主要阐述脉冲激光沉积技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍脉冲激光沉积制备VO_2薄膜材料的工艺参数和国内外研究进展,并与几种常规制备方法进行对比,给出脉冲激光沉积掺杂对VO_2薄膜材料特性的影响,以及采用脉冲激光沉积制备VO_2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备具有智能特性的VO_2薄膜材料存在的问题和发展方向.
关键词:脉冲激光沉积; VO_2; 薄膜; 制备; 掺杂; pulsed laser deposition; VO_2; thin film; fabrication; doping;
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